如上，在LDE中輸入系統(tǒng)初始結(jié)構(gòu)。勾選“Adjust Index Data To Environment”選項。

除了以上方法，我們還可以我們還可以利用Zemax OpticStudio內(nèi)建的工具自動插入所有所需參數(shù)操作數(shù)。打開MCE，點擊菜單欄上的Make Thermal工具即可。

除了標準溫度（組態(tài)1），我們還需要再插入兩個組態(tài)，分別為-20℃和40℃。因此在模擬過程中一共有三個組態(tài)。具體設(shè)定如下圖。

同時按下(Ctrl+A)可以切換組態(tài)，觀察系統(tǒng)熱效應(yīng)。

本例中，我們假設(shè)制造商使用邊緣厚度變化作為測試方法。我們在X、Y兩個方向輸入0.2mm的最1大傾斜，因此最1大1的半徑傾斜為sqrt(0.22+0.22)=0.28mm。

表面不規(guī)則度：可以定義為球差和像散的總和，也可以使用Zernike系數(shù)來定義（這主要是測量儀器為干涉儀時才這么定義）。本例中，我們使用第1一種方法，并且設(shè)定表面不規(guī)則度為1/5。

元件公差：主要測量系統(tǒng)的“機械軸”對元件的偏差程度。

光柵作為一類特殊的分光器件，已經(jīng)普遍用在光譜儀、單色儀、高光譜、光通訊等應(yīng)用領(lǐng)域上，近年來隨著AR/VR行業(yè)的興起，也廣泛用于AR眼鏡中，作為光耦合器件。光柵模塊參數(shù)說明（序列模式）：1.Radius:光柵基底面曲率半徑，基底面可以是平面，球面或者圓錐曲面。

2.Thickness:光柵基底面厚度。

3.Material:光柵材料。

4.Conic:光柵基底面圓錐系數(shù)，如1的描述。

5.TCE：光柵材料熱膨脹系數(shù)。

6.Mode number:后續(xù)擴展用。

7.Threshold:衍射效率閾值，如果光線的衍射效率低于該閾值，將從2D,3D視圖，Shadeds視圖及其他分析圖如點列圖中慮除掉，便于直觀的對主要衍射進行分析，去除干擾。

8.Vector Rotation:光柵刻線取向旋轉(zhuǎn)，類似于tilt about z.默認0時光柵刻線沿著x軸。

9.Order:衍射級次，可以指1定任何整數(shù)階衍射級次。

10.Lines/um:光柵刻線密度。

11.Structure Profile(Mode):光柵類型選擇