深圳國芯威科技有限公司
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-NAND閃存MT29F1G08ABADAH4:D
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聯(lián)系人 趙小姐
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商品介紹
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產(chǎn)品種類 NAND閃存
系列 MT29F
封裝 Tray
產(chǎn)品 NAND Flash
商標 Micron
產(chǎn)品類型 NAND Flash
數(shù)量 1260
數(shù)量 3600
商品介紹
產(chǎn)品屬性屬性值搜索類似制造商:Micron Technology產(chǎn)品種類:NAND閃存RoHS: 詳細信息 系列:MT29F封裝:Tray產(chǎn)品:NAND Flash 商標:Micron 產(chǎn)品類型:NAND Flash 工廠包裝數(shù)量:1260 子類別:Memory & Data StorageNAND閃存是一種比硬盤驅(qū)動器更好的存儲方案,這在不超過4GB的低容量應(yīng)用中表現(xiàn)得猶為明顯。隨著人們持續(xù)追求功耗更低、重量更輕和性能更佳的產(chǎn)品,NAND正被證明極具吸引力。NAND閃存是一種比硬盤驅(qū)動器更好的存儲方案,這在不超過4GB的低容量應(yīng)用中表現(xiàn)得猶為明顯。隨著人們持續(xù)追求功耗更低、重量更輕和性能更佳的產(chǎn)品,NAND正被證明極具吸引力。NAND閃存是一種非易失性存儲技術(shù),即斷電后仍能保存數(shù)據(jù)。它的發(fā)展目標就是降低每比特存儲成本、提高存儲容量。
閃存結(jié)合了EPROM的高密度和EEPROM結(jié)構(gòu)的變通性的優(yōu)點。
EPROM是指其中的內(nèi)容可以通過特殊手段擦去,然后重新寫入。其基本單元電路如下圖所示。常采用浮空柵雪崩注入式MOS電路,簡稱為FAMOS。它與MOS電路相似,是在N型基片上生長出兩個高濃度的P型區(qū),通過歐姆接觸分別引出源極S和漏極D。在源極和漏極之間有一個多晶硅柵極浮空在 絕緣層中,與四周無直接電氣聯(lián)接。這種電路以浮空柵極是否帶電來表示存1或者0,浮空柵極帶電后(例如負電荷),就在其下面,源極和漏極之間感應(yīng)出正的導電溝道,使MOS管導通,即表示存入0.若浮空柵極不帶電,則不能形成導電溝道,MOS管不導通,即存入1。
EEPROM基本存儲單元電路的工作原理如圖2.2所示。與EPROM相似,它是在EPROM基本單元電路的浮空柵極的上面再生成一個浮空柵,前者稱為第一級浮空柵,后者稱為第二級浮空柵。可給第二級浮空柵引出一個電極,使第二級浮空柵極接某一電壓VG。若VG為正電壓,第一浮空柵極與漏極之間產(chǎn)生隧道效應(yīng),使電子注入第一浮空柵極,即編程寫入。若使VG為負電壓,強使第一浮空柵極的電子散失,即擦除。擦除后可重新寫入。聯(lián)系方式
公司名稱 深圳國芯威科技有限公司
聯(lián)系賣家 趙小姐 (QQ:2355619871)
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