如上，在LDE中輸入系統(tǒng)初始結(jié)構(gòu)。勾選“Adjust Index Data To Environment”選項(xiàng)。

除了以上方法，我們還可以我們還可以利用Zemax OpticStudio內(nèi)建的工具自動(dòng)插入所有所需參數(shù)操作數(shù)。打開MCE，點(diǎn)擊菜單欄上的Make Thermal工具即可。

除了標(biāo)準(zhǔn)溫度（組態(tài)1），我們還需要再插入兩個(gè)組態(tài)，分別為-20℃和40℃。因此在模擬過(guò)程中一共有三個(gè)組態(tài)。具體設(shè)定如下圖。

同時(shí)按下(Ctrl+A)可以切換組態(tài)，觀察系統(tǒng)熱效應(yīng)。

我們可以用Layout圖檢查坐標(biāo)是否正確，但是在Layout圖中我們不能檢查微小的傾斜或者偏心。因此如果想要檢查微小的傾斜或者偏心，最1好是查看系統(tǒng)中每個(gè)元素的全局坐標(biāo)。

在“Analysis / Report / Prescription Data”中打開全局坐標(biāo)并僅勾選“Global Vertex”。

每個(gè)光學(xué)元件的全局坐標(biāo)將在輸出窗口中列出，從中可以得到如下結(jié)論

第10個(gè)表面到第15個(gè)表面并未發(fā)生傾斜或者偏心，因?yàn)榈?0個(gè)表面到第15個(gè)表面的旋轉(zhuǎn)矩陣只包含了1和0，并且透鏡3和像面的Y軸坐標(biāo)都為0即這些曲面中心位于系統(tǒng)坐標(biāo)軸上。

(請(qǐng)注意：10負(fù)16次方級(jí)別的數(shù)字為系統(tǒng)誤差，可以視為0)。

鏡頭2已傾斜5°：表面6到表面7的“Tilt X”為5。

以下為設(shè)置步驟

1.在表面5后面插入坐標(biāo)間斷面(表面6)，設(shè)置相應(yīng)的厚度、傾斜度、偏心度，使得表面6的中心與我們定義的空間任意一點(diǎn)重合。本例中，我們假設(shè)任意一點(diǎn)位于透鏡2中心點(diǎn)上方20mm處。

2.在表面6后面再插入坐標(biāo)間斷面(表面7)實(shí)現(xiàn)傾斜。本例中，設(shè)置沿X軸傾斜7°。

3.在表面7后面再插入坐標(biāo)間斷面(表面8)實(shí)現(xiàn)坐標(biāo)回歸。所有參數(shù)都設(shè)置為“拾取求解”，“From Surface”設(shè)置為6，“Scale Factor”設(shè)置為-1，注意“Order”設(shè)置為1。

4.在表面10后面再插入坐標(biāo)間斷面(表面11)，將透鏡2后的光學(xué)元件返回到執(zhí)行步驟2之后的位置。

5.在表面11后面再插入坐標(biāo)間斷面(表面12)，將透鏡2后的光學(xué)元件返回到執(zhí)行步驟1之后的位置。

6.在表面12后面再插入坐標(biāo)間斷面(表面13)，將透鏡2后的光學(xué)元件返回到初始結(jié)構(gòu)位置。

任何光學(xué)元件都可以使用相同的方法，在任意坐標(biāo)系統(tǒng)偏心和傾斜光學(xué)元件。

最后一個(gè)注意事項(xiàng)：當(dāng)設(shè)置軸外點(diǎn)中心點(diǎn)時(shí)，我們可以隱藏一些坐標(biāo)間斷面。當(dāng)我不經(jīng)常更改中心點(diǎn)位置時(shí)，這樣可以簡(jiǎn)化鏡頭數(shù)據(jù)編輯器。下圖顯示了簡(jiǎn)化之后的鏡頭數(shù)據(jù)編輯器。點(diǎn)擊需要隱藏的表面，右擊選擇“隱藏面”，即可隱藏該表面。