貴金屬產(chǎn)品說明

隨著電子，半導體科學的發(fā)展，貴（gui）金屬以其優(yōu)質(zhì)的性能，應用越來越廣泛。中諾新材可提供各種貴（gui）金屬的原材料及金、銀、鉑、鈀、釕，銠，銥的靶材和蒸發(fā)材料，價格與國內(nèi)市場價格同步。并可對金鉑等貴（gui）金屬材料進行二次回收。半導體化合物材料我們可提供半導體行業(yè)所需常用氧化物，硒化物，銻化物，硫化物，碲化物等。中諾新材可提供的貴（gui）金屬材料有：高純金，高純銀，高純鉑，高純鈀，高純釕，高純銠，高純銥。

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機加工制造而成。純度均可達到99.99%，主要應用于電子半導體、太陽能光伏、平面顯示、磁學等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機加工成靶，產(chǎn)品純度可達99.95%。主要應用于電子半導體、磁學等行業(yè)。

中諾新材可提供的常規(guī)陶瓷靶材如下：

氧化鋁靶 Al2O3 99.99%

氧化鉿靶 HfO2 99.99%

氧化鎂靶 MgO 99.99%

氧化硅靶 SiO2 99.999%

氧化鉭靶 Ta2O5 99.99%

氧化鈦靶 TiO2 99.99%

氧化鋅靶 ZnO 99.99%

氟化鎂靶 MgF 99.99%

硫化鋅靶 ZnS 99.99%

氮化鈦靶 TiN 99.9%

氮化鋁靶 AlN 99.9%

氮化硼靶 BN 99.9%

碳化硅靶 SiC 99.9%

常備現(xiàn)貨的靶材尺寸：

φ50.8mm  φ60mm

φ80mm,

φ100mm φ101.6mm

其它尺寸圓靶、方靶可定制

陶瓷靶材質(zhì)脆，受熱不均易碎，推薦綁定銅背靶，以增強靶材導熱性能，提供靶材利用率

中諾新材分析測試設備——晶相檢測分析儀                                          

  金相顯微鏡可以對Al、Ti、Ta、Cu、W、Mo、Co、Ni等金屬及其合金材料進行專業(yè)的金相分析。高純金屬材料是指化學純度高、雜質(zhì)含量少、與常規(guī)金屬相比具有優(yōu)異的物理化學性能的新材料，被認為是現(xiàn)代高新技術發(fā)展的基礎，是衡量一個國家或地區(qū)高新技術發(fā)展水平的重要指標。該儀器的物境倍數(shù)：5X 10X 20X 40X，目鏡倍數(shù)：10X，可擴展性：可配圖像分析系統(tǒng)(數(shù)碼相機、攝像頭、圖像分析軟件，采用TCI金相圖像分析系統(tǒng)V2.0，可對材料顯微組織、低倍組織和斷口組織等進行分析研究和表征，包含材料顯微組織的成像及其定性、定量表征，主要反映和表征構成材料的相和組織組成物、晶粒（亦包括可能存在的亞晶）、非金屬夾雜物乃至某些晶體缺陷（例如位錯）的數(shù)量、形貌、大小、分布、取向、空間