一、RO反滲透純水設(shè)備

反滲透是一種借助于選擇透過（半透過）性膜的工力能以壓力為推動力的膜分離技術(shù)，當(dāng)系統(tǒng)中所加的壓力大于進水溶液滲透壓時，水分子不斷地透過膜，經(jīng)過產(chǎn)水流道流入中心管，然后在一端流出水中的雜質(zhì)，如離子、有機物、細(xì)菌、病毒等，被截留在膜的進水側(cè)，然后在濃水出水端流出，從而達到分離凈化目的。 

1.1、系統(tǒng)組成：
預(yù)處理系統(tǒng)
一般包括原水泵、加藥裝置、石英砂過濾器、活性炭過濾器、 
精密過濾器等。其主要作用是降低原水的污染指數(shù)和余氯等其他雜質(zhì)，達到反滲透的進水要求。預(yù)處理系統(tǒng)的設(shè)備配置應(yīng)該根據(jù)原水的具體情況而定。

反滲透裝置
主要包括多級高壓泵、反滲透膜元件、膜殼（壓力容器）、支架等組成。其主要作用是去除水中的雜質(zhì)，使出水滿足使用要求。

后處理系統(tǒng)
是在反滲透不能滿足出水要求的情況下增加的配置。主要包括陰床、陽床、混床、、超濾、EDI等其中的一種或者多種設(shè)備。后處理系統(tǒng)能把反滲透的出水水質(zhì)的提高，使之滿足使用要求。

清洗系統(tǒng)
主要有清洗水箱、清洗水泵、精密過濾器組成。當(dāng)反滲透系統(tǒng)受到污染出水指標(biāo)不能滿足要求時，需要對反滲透進行清洗使之恢復(fù)功效。

電氣控制系統(tǒng)
是用來控制整個反滲透系統(tǒng)正常運行的。包括儀表盤、控制盤、各種電器保護、電氣控制柜等。 

1.2、主要工藝流程：
⒈原水罐 （可選）儲存原水，用于沉淀水中的大泥沙顆粒及其它可沉淀物質(zhì)。同時緩沖原水管中水壓不穩(wěn)定對水處理系統(tǒng)造成的沖擊。（如水壓過低或過高引起的壓力傳感的反應(yīng)）。
⒉原水泵
恒定系統(tǒng)供水壓力，穩(wěn)定供水量。
⒊多介質(zhì)過濾器
采用多次過濾層的過濾器，主要目的是去除原水中含有的泥沙、鐵銹、膠體物質(zhì)、懸浮物等顆粒在20um以上的物質(zhì)，可選用手動閥門控制或者全自動控制器進行反沖洗、正沖洗等一系列操作。保證設(shè)備的產(chǎn)水質(zhì)量，延長設(shè)備的使用壽命。
⒋活性炭過濾器
系統(tǒng)采用果殼活性炭過濾器，活性炭不但可吸附電解質(zhì)離子，還可進行離子交換吸附。經(jīng)活性炭吸附還可使高錳酸鉀耗氧量（COD）由15mg/L(O2）降至2～7mg/L(O2），此外，由于吸附作用使表面被吸附復(fù)制的濃度增加，因而還起到催化作用、去除水中的色素、異味、大量生化有機物、降低水的余氯值及農(nóng)藥污染物和除去水中的三鹵化物（THM）以及其它的污染物。同時，設(shè)備具有自我維護系統(tǒng)，運行費用很低。
⒌離子軟化系統(tǒng)/加藥系統(tǒng)
R/O裝置為了溶解固體形物的濃縮排放和淡水的利用，為防止?jié)馑颂貏e是RO裝置后一根膜組件濃水側(cè)出現(xiàn)CaCO3,MgCO3,MgSO4,CaSO4,BaSO4,SrSO4,SiSO4的濃度積大于其平衡溶解度常數(shù)而結(jié)晶析出，損壞膜原件的應(yīng)有特性，在進入反滲透膜組件之前，應(yīng)使用離子軟化裝置或投放適量的阻垢劑阻止碳酸鹽，SiO2，硫酸鹽的晶體析出.
⒍精密過濾器
采用精密過濾器對進水中殘留的懸浮物、非曲直粒物及膠體等物質(zhì)去除，使RO系統(tǒng)等后續(xù)設(shè)備運行更可靠。濾芯為5um熔噴濾芯，目的是把上級過濾單元漏掉的大于5um的雜質(zhì)除去。防止其進入反滲透裝置損壞膜的表面，從而損壞膜的脫鹽性能。
⒎反滲透系統(tǒng)
反滲透裝置是用足夠的壓力使溶液中的溶劑（一般是水）通過反滲透膜（或稱半透膜）而分離出來，因為這個過程和自然滲透的方向相反，因此稱為反滲透。反滲透法能適應(yīng)各類含鹽量的原水，尤其是在高含鹽量的水處理工程中，能獲得很好的技術(shù)經(jīng)濟效益。反滲透法的脫鹽率提高，回收率高，運行穩(wěn)定，占地面積小，操作簡便，反滲透設(shè)備在除鹽的同時，也將大部分細(xì)菌、膠體及大分子量的有機物去除。

殺滅由二次污染產(chǎn)生的細(xì)菌保證成品水的衛(wèi)生指標(biāo).

二、EDI超純水設(shè)備

超純水是指水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎去除，同時不離解的氣體、膠體以及有機物（包括細(xì)菌）也去除至很低程度的水。其電導(dǎo)率一般為0.1uS/cm，電阻率（25℃）>10Ω，含鹽量<0.1㎎/L.理想純水(理論上)電導(dǎo)率為0.055 uS/cm，電阻率（25℃）為18.5Ω。  

優(yōu)點：   

EDI裝置是應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后，取代傳統(tǒng)的混合離子交換技術(shù)（MB-DI）生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點: 

①水質(zhì)穩(wěn)定   

②容易實現(xiàn)全自動控制   

⑤運行費用低   

⑥占地面積小   

⑦無污水排放   

EDI技術(shù)是一種具有革命性意義的水處理技術(shù)，將電滲析與離子交換有機地結(jié)合在一起的連續(xù)去鹽工藝，屬高科技綠色環(huán)保技術(shù)。EDI凈水設(shè)備具有連續(xù)出水、無需酸堿和無人值守等優(yōu)點，已在制備純水的系統(tǒng)中逐步取代混床作為精處理設(shè)備使用。 

EDI裝置是應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后，取代離子交換樹脂，無需酸堿，具有水質(zhì)穩(wěn)定、運行費用低、操作管理方便、占地面積小等特點。  

特點： 

1. 透水量大，脫鹽率高。正常情況下≥98%   

2. 對有機物，膠體、微粒、細(xì)菌、病毒、熱源等有很高的截留去除作用。   

3. 能耗小，水利用率高，運行費用低于其它脫鹽設(shè)備。 

4. 分離過程沒有相變，具有可靠穩(wěn)定性。 

5. 設(shè)備體積小，操作簡單、容易維護，適應(yīng)性強，使用壽命長。

三、設(shè)備用途：
⒈制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計算機硬盤、集成電路芯片、單晶硅半導(dǎo)體等工藝所需的純水、高純水；
⒉制取熱力、火力發(fā)電鍋爐，廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水；
⒊制取醫(yī)藥工業(yè)所需的大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、無菌水及人工腎透析用純水等；
⒋制取飲料（含酒類）行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水，酒類釀造水和勾兌用純水；
⒌海水、苦咸水制取生活用水及飲用水；
⒍制取電鍍工藝用去離子水；電池（蓄電池）生產(chǎn)工藝的純水；汽車、家用電器、建材產(chǎn)品
表面涂裝、清洗沌水；鍍膜玻璃用純水；紡織印染工藝所需的除硬除鹽水；
⒎石油化工業(yè)如化工反應(yīng)冷卻水；化學(xué)藥劑、化肥及精細(xì)化工、化妝品制造過程用工藝純水；
⒏賓館、樓宇、社區(qū)機場房產(chǎn)物業(yè)的供水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)及游泳池水質(zhì)凈化；
⒐線路板、電鍍、電子工業(yè)廢水處理及回用； 

⒑生活、醫(yī)院、制革、印染、造紙工業(yè)廢水及垃圾滲瀝液的處理；