光程差和子午角

如前文所述，在Zemax OpticStudio中，無(wú)論物點(diǎn)在物空間的什么位置，子午/弧矢面總是分別包含光瞳坐標(biāo)系Y/X軸。

在Zemax OpticStudio子午/弧矢面可以利用參數(shù)子午角(Tangential Angle, TAN)或者漸暈角(Vignetting Angle, VAN)實(shí)現(xiàn)其子午/弧矢面沿著光瞳坐標(biāo)系Z軸旋轉(zhuǎn)。在這里，TAN與VAN是同一個(gè)概念.

Zemax OpticStudio 16.5之后，我們把VAN的命名改成了更易理解的TAN。

以下為設(shè)置步驟

1.在表面5后面插入坐標(biāo)間斷面(表面6)，設(shè)置相應(yīng)的厚度、傾斜度、偏心度，使得表面6的中心與我們定義的空間任意一點(diǎn)重合。本例中，我們假設(shè)任意一點(diǎn)位于透鏡2中心點(diǎn)上方20mm處。

2.在表面6后面再插入坐標(biāo)間斷面(表面7)實(shí)現(xiàn)傾斜。本例中，設(shè)置沿X軸傾斜7°。

3.在表面7后面再插入坐標(biāo)間斷面(表面8)實(shí)現(xiàn)坐標(biāo)回歸。所有參數(shù)都設(shè)置為“拾取求解”，“From Surface”設(shè)置為6，“Scale Factor”設(shè)置為-1，注意“Order”設(shè)置為1。

4.在表面10后面再插入坐標(biāo)間斷面(表面11)，將透鏡2后的光學(xué)元件返回到執(zhí)行步驟2之后的位置。

5.在表面11后面再插入坐標(biāo)間斷面(表面12)，將透鏡2后的光學(xué)元件返回到執(zhí)行步驟1之后的位置。

6.在表面12后面再插入坐標(biāo)間斷面(表面13)，將透鏡2后的光學(xué)元件返回到初始結(jié)構(gòu)位置。

任何光學(xué)元件都可以使用相同的方法，在任意坐標(biāo)系統(tǒng)偏心和傾斜光學(xué)元件。

最后一個(gè)注意事項(xiàng)：當(dāng)設(shè)置軸外點(diǎn)中心點(diǎn)時(shí)，我們可以隱藏一些坐標(biāo)間斷面。當(dāng)我不經(jīng)常更改中心點(diǎn)位置時(shí)，這樣可以簡(jiǎn)化鏡頭數(shù)據(jù)編輯器。下圖顯示了簡(jiǎn)化之后的鏡頭數(shù)據(jù)編輯器。點(diǎn)擊需要隱藏的表面，右擊選擇“隱藏面”，即可隱藏該表面。

光柵作為一類特殊的分光器件，已經(jīng)普遍用在光譜儀、單色儀、高光譜、光通訊等應(yīng)用領(lǐng)域上，近年來(lái)隨著AR/VR行業(yè)的興起，也廣泛用于AR眼鏡中，作為光耦合器件。光柵模塊參數(shù)說(shuō)明（序列模式）：1.Radius:光柵基底面曲率半徑，基底面可以是平面，球面或者圓錐曲面。

2.Thickness:光柵基底面厚度。

3.Material:光柵材料。

4.Conic:光柵基底面圓錐系數(shù)，如1的描述。

5.TCE：光柵材料熱膨脹系數(shù)。

6.Mode number:后續(xù)擴(kuò)展用。

7.Threshold:衍射效率閾值，如果光線的衍射效率低于該閾值，將從2D,3D視圖，Shadeds視圖及其他分析圖如點(diǎn)列圖中慮除掉，便于直觀的對(duì)主要衍射進(jìn)行分析，去除干擾。

8.Vector Rotation:光柵刻線取向旋轉(zhuǎn)，類似于tilt about z.默認(rèn)0時(shí)光柵刻線沿著x軸。

9.Order:衍射級(jí)次，可以指1定任何整數(shù)階衍射級(jí)次。

10.Lines/um:光柵刻線密度。

11.Structure Profile(Mode):光柵類型選擇