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對單質硅的粉末進行滲氮處理的合成方法

對單質硅的粉末進行滲氮處理的合成方法是在二十世紀50年代隨著對氮化硅的重新“發(fā)現(xiàn)”而開發(fā)出來的。也是種用于大量生產(chǎn)氮化硅粉末的方法。但如果使用的硅原料純度低會使得生產(chǎn)出的氮化硅含有雜質硅酸鹽和鐵。用二胺分解法合成的氮化硅是無定形態(tài)的，需要進一步在1400-1500℃的氮氣下做退火處理才能將之轉化為晶態(tài)粉末，二胺分解法在重要性方面是僅次于滲氮法的商品化生產(chǎn)氮化硅的方法。碳熱還原反應是制造氮化硅的途徑也是工業(yè)上制造氮化硅粉末符合成本效益的手段。

氮化硅的化學式為Si3N4,是一種重要的結構陶瓷材料

氮化硅的化學式為Si3N4，是一種重要的結構陶瓷材料。氮化硅是一種超硬物質，本身具有潤滑性，并且耐磨損，為原子晶體；高溫時。而且，氮化硅還能抵抗冷熱沖擊，在空氣中加熱到1000℃以上，急劇冷卻再急劇加熱，也不會碎裂。正是由于氮化硅陶瓷具有如此優(yōu)異的特性，人們常常利用它來制造軸承、氣輪機葉片、機械密封環(huán)、性模具等機械構件。如果用耐高溫而且不易傳熱的氮化硅陶瓷來制造發(fā)動機部件的受熱面，不僅可以提高柴油機質量，節(jié)省燃料，而且能夠提高熱效率。

氮化硅（Si3N4）存在有3種結晶結構，分別是α、β和γ三相。α和β兩相是Si3N4非常常出現(xiàn)的型式，且可以在常壓下制備。γ相只有在高壓及高溫下，才能合成得到，它的硬度可達到35GPa。

制備氮化硅陶瓷制品的工藝流程一般由原料處理、粉體合成、粉料處理、成形、生坯處理，燒結和陶瓷體處理等環(huán)節(jié)組成。

氮化硅陶瓷制備工藝的類型主要是按合成、成型和燒結的不同方法和次序區(qū)分的。

陶瓷常用的成型方法有干壓、流延以及注射，其中干壓成型是應用廣泛的一種成型工藝，也是手機陶瓷背板主流的成型工藝之一，小米MIX系列的陶瓷后蓋都是干壓成型的。今天，我們來詳細了解一下陶瓷干壓成型工藝。