廣州克思曼研磨科技有限公司
主營產(chǎn)品: 磨料
廣州克思曼供應(yīng)多晶硅拋光液-品牌拋光液廠家批發(fā)價(jià)格-歡迎咨詢
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廣州克思曼研磨科技有限公司
經(jīng)過嚴(yán)格的粒徑控制和專業(yè)的加工工藝。
經(jīng)過嚴(yán)格的粒徑控制和專業(yè)的加工工藝。
該產(chǎn)品拋光效率高、雜質(zhì)含量低、拋光后容易清洗等特點(diǎn)。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1.懸浮 分散性好、
2.粒徑分布廣泛:30-120nm。
3.高純度(Cu2+含量小于50 ppb),有效減小對電子類產(chǎn)品的沾污。
4.經(jīng)特殊工藝合成的化學(xué)機(jī)械拋光液,納米顆粒呈球形,單分散,大小均勻,粒徑分布窄,可獲得高質(zhì)量的拋光精度。
5.適合與各種拋光墊、合成材料配合拋光使用。
6.PH、粒徑、穩(wěn)定離子等可以根據(jù)客戶定制(30-120 nm)
拋光過程中具有:
1.高拋光速率,利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達(dá)到高速拋光的目的。(可以生產(chǎn)120 nm)。
2.高平坦度加工,本品拋光是利用SiO2的膠體粒子,不會(huì)對加工件造成物理損傷,達(dá)到高平坦化加工。
拋光過程后具有:
1.精度可以達(dá)到埃級
2.劃傷和挖傷可以達(dá)到0/0
產(chǎn)品參數(shù)
主要成份 | 外觀 | 密度 | PH值 |
sio2 | 白色液體 | 1.15±0.05 | 9.8±0.5 |
拋光溫度 | 稀釋比例 | 拋光壓力 | |
10-38° | 1:1 | 150-250g、cm& |
使用方法:
1.可根據(jù)拋光操作條件用去離子水進(jìn)行1:1倍稀釋。
2循環(huán)拋光可以用原液。
儲存方法:
1.貯存時(shí)應(yīng)避免曝曬,貯存溫度為5-35℃
2.低于0℃以上儲存,防止結(jié)冰,在零度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。
3.避免敞口長期與空氣接觸。
價(jià)格實(shí)惠:
克思曼的生產(chǎn)技術(shù),是引進(jìn)國外生產(chǎn)技術(shù),其品質(zhì)可以媲美進(jìn)口的產(chǎn)品,但克思曼產(chǎn)品價(jià)格比進(jìn)口便宜,有效的避免了進(jìn)口產(chǎn)品其交貨周期長,價(jià)格昂貴。