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FlybackFlyback拓?fù)涞耐秸饕彩呛屯負(fù)浔旧淼目刂品绞较嚓P(guān)很大，主要分為CCM模式和DCM模式1.CCM模式下，空載和滿載的占空比變化不大，空載或者輕載下模塊會有負(fù)電流，但可以帶來較好的滿載效率，適合低壓的應(yīng)用，但FlybackCCM模式并不容易實(shí)現(xiàn)，需要對副邊同步整流管提前原邊開通前關(guān)斷2.DCM模式需要對副邊電流過零點(diǎn)進(jìn)行采樣關(guān)斷副邊MOS，會帶來更好的輕載效率，工作模式更像“二極管”，在高壓輸入的電源中，QR模式非常適合做DCM的同步整流。
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1）自驅(qū)動同步整流關(guān)機(jī)時(shí)候在前一階段為同步整流模式，電壓掉到一定程度，變?yōu)槎O管模式，從而帶來不同的輸出電壓下降斜率。2）外驅(qū)動同步整流原邊關(guān)機(jī)后，副邊未正確的及時(shí)關(guān)斷。解決思路：1）采用一定的控制方法控制副邊同步整流管在原邊關(guān)斷后快速關(guān)斷，變?yōu)槎O管模式關(guān)機(jī)。2）采用一定的方法控制副邊同步整流軟關(guān)斷。同步整流—更好的動態(tài)響應(yīng)值得指出的一點(diǎn)是，同步整流線路不僅僅能帶來效率的提升，在提高電路的動態(tài)響應(yīng)方面，如果采用CCM模式的同步整流，會帶來動態(tài)響應(yīng)的提升。二極管在低載情況下，環(huán)路特性會非常難以補(bǔ)償從而帶來較差的動態(tài)響應(yīng)，而CCM的同步整流，在空滿載情況下是接近的來源：電源研發(fā)精英圈
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光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度非常大，現(xiàn)在ASML的的EUV極紫外線光刻機(jī)已經(jīng)能夠制造5nm制程的芯片了，單臺光刻機(jī)的售價(jià)已經(jīng)超過了1億美元，中國完全自主生產(chǎn)的光刻機(jī)目前只能達(dá)到90nm制程，差了一大截。光刻機(jī)的研制到底難在哪？光刻機(jī)涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動、精密物料傳輸、微環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)，是所有半導(dǎo)體制造設(shè)備中技術(shù)含量的設(shè)備。ASML為能夠在整個(gè)設(shè)備的不同部位同時(shí)獲得先進(jìn)的技術(shù)，ASML的光刻機(jī)中超過90%的零件都是向外采購的，ASML在技術(shù)研發(fā)方面匯聚了世界前沿的科技，比如德國的機(jī)械工藝、德國的蔡司鏡頭、美國的光源和計(jì)量設(shè)備等，可以說ASML的光刻機(jī)是“集人類智慧大成的產(chǎn)物”。國際廠商：ASML阿斯麥爾（荷蘭）中國廠商：SMEE上海微電子