北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
金屬光刻膠品牌-國(guó)產(chǎn)光刻膠品牌-Futurrex-半導(dǎo)體光刻膠
價(jià)格
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¥9000.00
≥1
店鋪主推品 熱銷潛力款
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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
店齡5年 企業(yè)認(rèn)證
聯(lián)系人
況經(jīng)理
聯(lián)系電話
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經(jīng)營(yíng)模式
生產(chǎn)加工
所在地區(qū)
北京市大興區(qū)
主營(yíng)產(chǎn)品
光刻膠市場(chǎng)
據(jù)統(tǒng)計(jì)資料顯示,2017年中國(guó)光刻膠行業(yè)產(chǎn)量達(dá)到7.56萬(wàn)噸,較2016年增加0.29萬(wàn)噸,其中,中國(guó)本土光刻膠產(chǎn)量為4.41萬(wàn)噸,與7.99萬(wàn)噸的需求量差異較大,說(shuō)明我國(guó)供給能力還需提升。
國(guó)內(nèi)企業(yè)的光刻膠產(chǎn)品目前還主要用于PCB領(lǐng)域,代表企業(yè)有晶瑞股份、科華微電子。
在半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域,隨著汽車電子、物聯(lián)網(wǎng)等發(fā)展,會(huì)在一定程度上增加對(duì)G線、I線的需求,利好G線、I線等生產(chǎn)企業(yè)。預(yù)計(jì)G線正膠今后將占據(jù)50%以上市場(chǎng)份額,I線正膠將占據(jù)40%左右的市場(chǎng)份額,DUV等其他光刻膠約占10%市場(chǎng)份額,給予北京科華、蘇州瑞紅等國(guó)內(nèi)公司及美國(guó)futurrex的光刻膠較大市場(chǎng)機(jī)會(huì)。
NR9-3000PY光刻膠
2,涂膠,在硅片覆蓋,旋轉(zhuǎn),離心力,在硅片表面通過(guò)旋轉(zhuǎn)的光刻膠,工藝參數(shù)3000-6000rpm 膠膜厚0.5-1um,
3,前烘,通過(guò)在較高溫度下進(jìn)行烘焙,使存底表面涂覆的光刻膠膜的溶劑揮發(fā),溶劑將至5%左右,同時(shí)增強(qiáng)與襯底的粘附性。前烘方法:熱平板傳導(dǎo),干燥循環(huán)熱風(fēng)提高附著力,紅外線輻射。
烘箱前烘條件:90-100度,10-20min,前烘時(shí)間與溫度應(yīng)適當(dāng),如太長(zhǎng)或溫度太高,光刻膠層變脆而附著力下降,而前烘不足會(huì)影響后面的顯影效果。
光刻膠工藝
主要用于半導(dǎo)體圖形化工藝,是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的重要步驟。光刻工藝?yán)没瘜W(xué)反應(yīng)原理把事先制備在掩模上的圖形轉(zhuǎn)印到晶圓,完成工藝的設(shè)備光刻機(jī)和光刻膠都是占半導(dǎo)體芯片工廠資產(chǎn)的大頭。
在目前比較主流的半導(dǎo)體制造工藝中,一般需要40 步以上獨(dú)立的光刻步驟,貫穿了半導(dǎo)體制造的整個(gè)流程,光刻工藝的先進(jìn)程度決定了半導(dǎo)體制造工藝的先進(jìn)程度。光刻過(guò)程中所用到的光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備。目前,ASML 的NXE3400B售價(jià)在一億歐元以上,媲美一架F35 戰(zhàn)斗機(jī)。
按曝光波長(zhǎng),光刻膠可分為紫外(300~450 nm)光刻膠、深紫外(160~280 nm)光刻膠、極紫外(EUV,13.5 nm)光刻膠、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X射線光刻膠等。按照應(yīng)用領(lǐng)域的不同,光刻膠又可以分為印刷電路板(PCB)用光刻膠、液晶顯示(LCD)用光刻膠、半導(dǎo)體用光刻膠和其他用途光刻膠。PCB光刻膠技術(shù)壁壘相對(duì)其他兩類較低,而半導(dǎo)體光刻膠代表著光刻膠技術(shù)先進(jìn)水平。