東莞市大嶺山展立五金模具加工廠主營：鍍鈦,沖棒鍍鈦,鍍鈦加工

鍍鈦廠家發(fā)現如果非讓真空鍍與水電鍍層兩個在一起的話，他們會互相削弱對方的功力，對方不能完全發(fā)揮出自己的實力，具體要怎么來說呢?鍍鈦廠家分析后發(fā)現用真空鍍氮化膜做底色的，不銹鋼鍍鈦廠家發(fā)現那樣就會使能使用電鍍的的顏色比較少，這樣做會限制電鍍的顏色種類，通俗的說就是會只有蝕刻面的的顏色的效果是顯現不出來的。

1.真空蒸鍍

真空蒸鍍是真空條件下在1.33x10-3至1.33x10-4Pa的壓力下，用電子束等熱源加熱沉積材料使之蒸發(fā)，蒸發(fā)的原子或分子直接在注塑加工件表面形成沉積層。但對于難熔的金屬碳化物和氮化物進行直接蒸發(fā)是有困難的，并且有使化合物分解的傾向。為此，開發(fā)了引入化學過程的反應蒸鍍，例如，用電子槍蒸發(fā)鈦金屬，并將少量和等反應氣體導入蒸發(fā)空間，使鈦原子和反應氣體原子在工件表面進行反應，沉積TiC涂層。

真空蒸鍍多用于透鏡和反射鏡等光學元件、各種電子元件、塑料注塑加工制品等的表面鍍膜，在表面硬化方面的應用不太多。

PVD是英文Physical Vapor Deition(物理氣相沉積)的縮寫，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及其反應產物沉積在工件上。PVD (物理) ：PVD(Physical Vapor Deition)，指利用物理過程實現物質轉移，將原子或分子由源轉移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上，使得母體具有更好的性能。 PVD基本方法：真空蒸發(fā)鍍鈦、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。