東莞市大嶺山展立五金模具加工廠主營：鍍鈦,沖棒鍍鈦,鍍鈦加工

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術的主要特點和優(yōu)勢

和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點：

1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨

2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件

3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效率高

4．可鍍膜層種類廣泛

5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）

 PVD鍍膜（離子鍍膜）技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD涂層技術可以廣泛應用于各類磨損、咬合、腐蝕、粘著、融合等而引起失效的工具、模具、機械零件、等。其中，因磨損引起的失效的產(chǎn)品（如：沖裁、冷鐓、粉末成型等）涂層后可提高壽命2-20倍以上；因咬合引起產(chǎn)品或模具的拉傷問題（如：引伸模、拉伸模、翻邊模等），涂層后可以從根本上予以解決。

它是廣泛應用的工業(yè)超硬薄膜技術，以其高硬度、低磨損率、低磨擦系數(shù)、強抗腐蝕性、抗黏著性等優(yōu)越的使用性能廣泛應用于模具工業(yè)中。

什么是真空鍍膜設備？

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過蒸發(fā)鍍膜設備+所鍍產(chǎn)品圖蒸發(fā)鍍膜設備+所鍍產(chǎn)品圖程，終形成薄膜。