純水設(shè)備技術(shù)

純水設(shè)備技術(shù)有很多，以高分子分離膜為代表的膜分離技術(shù)作為一種新型的流體分離單元操作技術(shù)，三十年來取得了令人矚目的巨大發(fā)展。今天的分離膜世界市場規(guī)模已達到每年20億美元以上。所有的分離膜技術(shù)均可應(yīng)用到石油、天1然氣及石油化工行業(yè)中去。反滲透和納濾作為主要的水及其它液體分離膜之一，在分離膜領(lǐng)域內(nèi)占有重要地位。

超純水設(shè)備濃水室如何清洗

1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)；2、分離EDI設(shè)備與其他純水設(shè)備的連接管路；3、連接清洗裝置，使清洗泵通過濃水管路進入EDI模塊再回到清洗水箱，濃水進、出閥開啟，關(guān)閉EDI淡水進水閥和產(chǎn)水閥；4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液；5、啟動清洗泵，調(diào)節(jié)濃水進水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗；6、停止清洗泵，排除清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝；7、向清洗水箱連續(xù)注入清洗（反滲透純水設(shè)備產(chǎn)水），啟動清洗泵連續(xù)清洗；8、打開EDI進水閥和產(chǎn)水閥，同時對兩個水室進行沖洗；9、檢測濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進水側(cè)電導(dǎo)率相近；10、各個閥門，恢復(fù)原始各設(shè)備流量數(shù)據(jù)；11、恢復(fù)EDI各個管路與其他系統(tǒng)的連接；12、開啟PLC控制電源柜，向EDI模塊送電，轉(zhuǎn)入正常運行，并作好初次運行的數(shù)據(jù)記錄。

純水設(shè)備不適宜在高溫下運行的原因是什么？

其實因為在高溫環(huán)境下，對于反滲透膜的性能來說會有很大的影響，我們可以在數(shù)據(jù)中看出，水溫度變高，反滲透膜的脫鹽率將降低，這是成反比的。這是因為在流量不變情況下設(shè)備運行，水溫升高會導(dǎo)致設(shè)備內(nèi)粘度的下降，導(dǎo)致水流量增加，直接導(dǎo)致運行壓力下降，脫鹽率也就跟著降低。因此，當(dāng)發(fā)現(xiàn)水溫出現(xiàn)升高的情況是，要根據(jù)實際情況采取相應(yīng)合理的措施進行調(diào)整和維護。