鍍鋁膜的概述原理生產(chǎn)工藝介紹

 一.概述

 金屬薄膜的真空蒸發(fā)(vacuum evaluation of metal film)是在高真空(10-4 mba以上)下，通過電阻、高頻或電子束加熱熔融蒸發(fā)金屬，并附著在薄膜襯底表面，形成復(fù)合薄膜的過程。電鍍金屬材料可以是金、銀、銅、鋅、鉻、鋁等。，其中鋁常用的。在塑料薄膜或紙張表面鍍上一層金屬鋁，就成為鍍鋁薄膜或紙張。

 包裝用真空鍍鋁薄膜具有以下特點:

 (1)與鋁箔相比，大大降低了鋁的消耗，節(jié)約了能源和材料，降低了成本。復(fù)合鋁箔的厚度大多為7-9 μm，而鍍鋁薄膜的鋁層厚度約為400 μm(0.04 μm)，其鋁消耗量約為鋁箔的1/200，生產(chǎn)速度可達700 m/min。

 (2)具有優(yōu)異的耐折性和良好的韌性，針孔和裂紋少，無扭曲和開裂現(xiàn)象，改善了對氣體、水蒸氣、氣味、光等的阻隔性。

 (3)具有優(yōu)異的金屬光澤，光反射率可達97%；并且可以通過涂層處理形成彩膜，裝飾效果小于鋁箔。

 (4)部分鍍鋁可以通過屏蔽或洗脫進行，以獲得任何圖案或透明窗口來觀察包裝的內(nèi)容物。

 (5)鍍鋁層具有良好的導(dǎo)電性，可以靜電效應(yīng)。尤其是包裝粉狀產(chǎn)品時，不會污染密封部件，包裝的密封性能。

 (6)對印刷、復(fù)合等后處理具有良好的適應(yīng)性。