的生產(chǎn)和生產(chǎn)質(zhì)量與制藥設(shè)備的因素息息相關(guān)，GMP 的意義是把影響生產(chǎn)質(zhì)量的人為差錯(cuò)減到低，防止一切對(duì)的污染、交叉污染和使質(zhì)量下降的發(fā)生，確保和生產(chǎn)質(zhì)量的萬(wàn)無(wú)一失，因此決定了制藥裝備的發(fā)展也必須符合這個(gè)原則。 制藥設(shè)備在作為生產(chǎn)手段的同時(shí)，又是不可忽視的污染因素。美 FDA 曾針對(duì)污染輸液所觸目驚心的藥難事件（即發(fā)生在 20 世紀(jì) 60 年代一度頻頻爆發(fā)的敗血癥案）展開(kāi)調(diào)查，得出的結(jié)論出乎意料，并非是 企業(yè)沒(méi)做無(wú)菌檢查或違反藥事法規(guī)，而是在于無(wú)菌檢查本身的局限性、設(shè)備或系統(tǒng)設(shè)計(jì)的缺陷以及生產(chǎn)過(guò)程的偏差，導(dǎo)致如：（1）設(shè)備上的壓力表及溫度顯示與實(shí)際部位的需要并不一致而未達(dá)到要求；（2）設(shè)備密封缺陷導(dǎo)致再次受污染等。另外出現(xiàn)問(wèn)題還涉及制造設(shè)備的材料、所使用的介質(zhì)、設(shè)備的結(jié)構(gòu)（防靜電、防爆、密封、潤(rùn)滑、清洗結(jié)構(gòu)）、操作方法以設(shè)備排放（散塵、散熱、廢氣、廢水）等。由于制藥加工設(shè)備的設(shè)計(jì)、制造、使用等環(huán)節(jié)都可能存在引發(fā)污染和交叉污染的潛在危險(xiǎn)，F(xiàn)DA 將其原因歸結(jié)為“過(guò)程失控”，故提出對(duì)生產(chǎn)環(huán)節(jié)進(jìn)行管理和對(duì)生產(chǎn)設(shè)備進(jìn)行驗(yàn)證的規(guī)定，誕生了GMP，使制設(shè)備區(qū)別于一般用途機(jī)械而處在受監(jiān)控的狀態(tài)，這是 GMP 對(duì)制藥生產(chǎn)設(shè)備的明確觀點(diǎn)。鑒于GMP 有對(duì)制藥設(shè)備的專門要求，以及制藥設(shè)備所涉及的各種性狀（熱敏性、黏附性、吸濕性、揮發(fā)性、反應(yīng)等）、劑型（膜劑、膏劑、栓劑、氣霧劑、輸液劑、片劑、微丸劑等）、制藥工藝方法或過(guò)程（反應(yīng)、結(jié)晶、發(fā)酵、蒸餾、萃取、分離、濃縮、真空及微波干燥、篩分、濕熱及干熱、粉碎、切制、選別、洗烘、潤(rùn)炒、純水及純蒸汽制?。┑龋沟弥扑幯b備成為一個(gè)跨學(xué)科、融合多領(lǐng)域技術(shù)、多元化產(chǎn)品的特殊性行業(yè)。在制藥企業(yè)中都設(shè)有 GMP 驗(yàn)證的專門組織或機(jī)構(gòu)，設(shè)備驗(yàn)證已成為制藥企業(yè)在設(shè)備購(gòu)置或投用前進(jìn)行的例行工作，并正在成為對(duì)質(zhì)量具說(shuō)服力的一種市場(chǎng)認(rèn)可方式，無(wú)形中成了使用方選擇、評(píng)價(jià)制藥機(jī)械產(chǎn)品的一種手段。驗(yàn)證驅(qū)使裝備制造企業(yè)間的產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)加激烈，使制造方不得不關(guān)注自己產(chǎn)品的性能和水平，設(shè)備的驗(yàn)證讓企業(yè)感受到了產(chǎn)品生產(chǎn)與市場(chǎng)的接軌和 ISO 所提出的社會(huì)責(zé)任標(biāo)準(zhǔn)的內(nèi)涵。 為引導(dǎo)制藥裝備行業(yè)內(nèi) GMP 的開(kāi)展，行業(yè)相繼制定了《制藥裝備符合生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范的通則》、《制藥機(jī)械（設(shè)備）驗(yàn)證導(dǎo)則》等指導(dǎo)性標(biāo)準(zhǔn)。隨著 GMP 的發(fā)生，產(chǎn)生了 URS（用戶需求標(biāo)準(zhǔn)）、CIP（在位清洗）、SIP（在位）、TTW（穿墻隔離技術(shù)）、無(wú)塵對(duì)接傳遞系統(tǒng)、不見(jiàn)陽(yáng)光的結(jié)構(gòu)等許多新的設(shè)計(jì)方法和新的行業(yè)術(shù)語(yǔ)。GMP 對(duì)制藥設(shè)備的要求基本可歸納有以下方面： （1）凈化、清洗和方面：凈化，對(duì)設(shè)備來(lái)講包含兩層意思，即設(shè)備自身不對(duì)生產(chǎn)環(huán)境形成污染及不對(duì)構(gòu)成威脅；清洗和，設(shè)備的在位清洗和在位技術(shù)（指系統(tǒng)或機(jī)構(gòu)在原安裝位置不作任何移動(dòng)和改變條件下進(jìn)行清洗或的功能）是有效控制交叉污染的方法，但需設(shè)備結(jié)構(gòu)上與控制上的技術(shù)支持。 （2）材質(zhì)、外觀和設(shè)計(jì)方面：制造設(shè)備的材料不得對(duì)性質(zhì)、純度、質(zhì)量產(chǎn)生影響，應(yīng)、耐腐蝕且不與所接觸物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，不產(chǎn)生吸附作用，不產(chǎn)生微粒；外觀的簡(jiǎn)潔是達(dá)到完全清洗或清潔目的的前提條件；也包含了兩層意思，一是從講，設(shè)備不得使性質(zhì)和質(zhì)量發(fā)生改變；二是設(shè)備操作和運(yùn)行的及性能。 （3）結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方面：設(shè)備中機(jī)械動(dòng)力構(gòu)件與物料等接觸的情況很多，常常又是結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上很難處理的（如粉體混合、動(dòng)軸密封等與接觸部分的不良結(jié)構(gòu)極易形成污染）。此外，還涉及到簡(jiǎn)潔和光滑設(shè)計(jì)、潤(rùn)滑結(jié)構(gòu)和潤(rùn)滑劑的選擇、局部百級(jí)空氣層流凈化、設(shè)備使用中自身因素對(duì)環(huán)境和的影響與威脅等方面，都是結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)須十分注意的。 （4）在線檢測(cè)、控制和驗(yàn)證方面：在線檢測(cè)、控制是滿足和連續(xù)化生產(chǎn)的條件，需要數(shù)顯、分析、記錄、程控、報(bào)警等先進(jìn)技術(shù)的應(yīng)用。驗(yàn)證是對(duì)制藥設(shè)備質(zhì)量進(jìn)行系統(tǒng)確認(rèn)的有文件證明的活動(dòng)，其包括設(shè)計(jì)確認(rèn)、安裝確認(rèn)、運(yùn)行確認(rèn)和性能確認(rèn) 4 個(gè)階段，使用方對(duì)設(shè)備要經(jīng)過(guò)以上驗(yàn)證，合格后方可投入使用，制藥裝備制造方在研發(fā)階段必須注重產(chǎn)品設(shè)計(jì)要符合 GMP。 （5）相關(guān)公用工程方面：設(shè)備不是獨(dú)立存在的，制藥設(shè)備所用介質(zhì)（水、氣、汽等）和設(shè)備發(fā)散因素對(duì)生產(chǎn)的也有著不可忽略的影響，同樣，也涉及到與制藥設(shè)備配套設(shè)施、設(shè)備的接口（工藝口、驗(yàn)證口、取樣口、 檢修口等）。 面對(duì) GMP，希望制藥設(shè)備設(shè)計(jì)滿足生產(chǎn)“零缺陷”的要求，有些要求對(duì)于機(jī)械結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)來(lái)說(shuō)近于苛刻。諸如：（1）容器內(nèi)零部件結(jié)構(gòu)應(yīng)無(wú)滯留物料的死角； （2）動(dòng)軸的密封不得向物料一側(cè)滲漏；（3）如何實(shí)現(xiàn) CIP與 SIP；（4）減少工序暴露；（5）避免工藝上、傳遞上或設(shè)備操作上所產(chǎn)生的交叉污染；（6）實(shí)現(xiàn)連續(xù)化、無(wú)菌化“不見(jiàn)陽(yáng)光”的密閉生產(chǎn)系統(tǒng)；（7）防止人為差錯(cuò)。從 GMP 對(duì)制藥設(shè)備的嚴(yán)格要求來(lái)講，給了制藥裝備結(jié)構(gòu)與功能上很大的研發(fā)和改進(jìn)的空間，形成了制藥裝備“十一五”期間以技術(shù)創(chuàng)新和現(xiàn)代技術(shù)應(yīng)用為主的競(jìng)爭(zhēng)發(fā)展時(shí)期。