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如何建設(shè)標(biāo)準(zhǔn)化機房?

如何建設(shè)標(biāo)準(zhǔn)化機房？

一、機房隔斷

機房區(qū)域內(nèi)與外界隔斷玻璃一般采用12mm厚單片鋼化玻璃進行隔斷。玻璃邊框一般采用1mm厚的201或304銹鋼材質(zhì)包邊框。

二、機房墻面

機房內(nèi)墻面，機房墻板常用單面復(fù)合彩鋼板，即面板為0.6mm厚涂層鍍鋅鋼板內(nèi)嵌12mm厚防火石膏板；機房墻板安裝時墻壁應(yīng)平整，做防塵及保溫處理，骨架采用輕鋼龍骨或方管做骨架，并采用保溫棉，再裝彩鋼板。

機房四周墻角，采用100mm高亞光不銹鋼踢腳線。

三、機房地面

1、機房地面彩用防塵、防水，潔凈化處理。

①防水處理： 一樓地面需已做好防水處理；用環(huán)氧封閉底漆。

②素地處理： 依素地狀況做好打磨、修補、除塵；

③防靜電底漆：采用滲透性及附著力特強防靜電環(huán)氧底漆滾涂一道，增強表面附著力；

④防靜電中涂：防靜電中涂將環(huán)氧樹脂加入適量的石英砂，用鏝刀將其均勻涂布一至二道；

⑤銅箔鋪設(shè)： 導(dǎo)電銅箔采用井型鋪設(shè)，有效排除累積之靜電，并做接地處理；

⑥防靜電批土：防靜電批土依實際需要施工數(shù)道，要求達到平整無孔洞，無批刀印及砂磨印為準(zhǔn)；

⑦防靜電面漆：防靜電面漆滾涂二道，其體積/表面電阻平均系數(shù)值1X10^6～1X10^9Ω，完工后整體地面光亮潔凈，顏色均一，無空鼓；

⑧施工完成。

機房建設(shè)之活動地板計算

機房建設(shè)之活動地板

計算機房用活動地板應(yīng)符合國標(biāo)GB6650-86《計算機房用活動地板技術(shù)條件》。

活動地板的理想高度在18-24英寸（46-61cm）之間。

活動地板的鋪設(shè)應(yīng)在機房內(nèi)各類裝修施工及固定設(shè)施安裝完成并對地面清潔處理后進行。

建筑地面應(yīng)符合設(shè)計要求，并應(yīng)清潔、干燥，活動地板空間作為靜壓箱時，四壁及地面均就作防塵處理，不得起皮和龜裂。

現(xiàn)場切割的地板，周邊應(yīng)光滑、刺，并按原產(chǎn)品的技術(shù)要求作相應(yīng)處理。

活動地板鋪設(shè)前應(yīng)按標(biāo)高及地板布置嚴格放線將支撐部件調(diào)整至設(shè)計高度，平整、牢固。

活動地板鋪設(shè)過程中應(yīng)隨時調(diào)整水平。遇到障礙或不規(guī)則地面，應(yīng)按實際尺寸鑲補并附加支撐部件。

在活動地板上搬運、安裝設(shè)備時應(yīng)對地板表面采取防護措施。鋪設(shè)完成后，做好防靜電接地。

弱電機房建設(shè)有哪些規(guī)范要求？

一、機房建設(shè)需要執(zhí)行的標(biāo)準(zhǔn)

主機房建設(shè)工程必須遵循國家機房設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范的要求。

二、場地要求

計算機機房在多層建筑或高層建筑物內(nèi)一般應(yīng)設(shè)于第二、三層，水源充足，電力穩(wěn)定可靠，應(yīng)遠離產(chǎn)生粉塵、油煙、有害氣體以及貯存具有腐蝕性物品的倉庫等;遠離強震源和強噪聲源;避開強電磁場干擾，此外還要具備下列條件:

1、對環(huán)境的溫度、濕度要求；

2、對空氣的潔凈度、新鮮度和流動速度要求；

3、對電源、電壓、頻率和穩(wěn)定性、后備時間要求；

4、對照明的照度、眩光、均勻度、穩(wěn)定性、顯色性、光效要求及產(chǎn)生有害電磁波的限制及應(yīng)急照明要求；