北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
正向光刻膠-Futurrex-正向光刻膠公司
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钳钼钹钺钳钹钼钼钹钻钼
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經(jīng)營模式
生產(chǎn)加工
所在地區(qū)
北京市大興區(qū)
主營產(chǎn)品
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司供應(yīng)美國Futurrex新型lift-off光刻膠NR9-3000PY,此款負膠的設(shè)計適用于比較寬的波長范圍和i線(366納米)曝光工具。當顯影后NR9-3000PY顯示出負的側(cè)壁角度,是lift-off工藝中比較簡易的光刻膠。和其他膠相比NR9i-3000PY有下面的優(yōu)勢:
在光刻膠的生產(chǎn)上,我國主要生產(chǎn)PCB光刻膠,LCD光刻膠和半導體光刻膠生產(chǎn)規(guī)模較小, 2015年據(jù)統(tǒng)計我國光刻膠產(chǎn)量為9.75萬噸,其中中低端PCB光刻膠產(chǎn)值占比為94.4%,半導體和LCD光刻膠分分別占比1.6%和2.7%,嚴重依賴進口。
縱觀全球市場,光刻膠專用化學品生產(chǎn)壁壘高,國產(chǎn)化需求強烈。 化學結(jié)構(gòu)特殊、保密性強、用量少、純度要求高、生產(chǎn)工藝復雜、品質(zhì)要求苛刻,生產(chǎn)、檢測、評價設(shè)備投資大,技術(shù)需要長期積累。
至今光刻膠專用化學品仍主要被被日本合成橡膠(JSR)、東京應(yīng)化(TOK)、住友化學、美國杜邦、美國futurrex、德國巴斯夫等化工寡頭壟斷。
光刻膠的分類
以下是賽米萊德為您一起分享的內(nèi)容,賽米萊德專業(yè)生產(chǎn)光刻膠,歡迎新老客戶蒞臨。
硅片制造中,光刻膠的目的主要有兩個:(1)將掩模版圖形轉(zhuǎn)移到硅片表面頂層的光刻膠中;(2)在后續(xù)工藝中,保護下面的材料(例如刻蝕或離子注入阻擋層)。
分類
光刻膠的技術(shù)復雜,品種較多。根據(jù)其化學反應(yīng)機理和顯影原理,可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負性膠;反之,對某些溶劑是不可溶的,經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即為正性膠。圖1是正性膠的顯影工藝與負性膠顯影工藝對比結(jié)果示意圖 [2] 。