真空電弧離子鍍膜機源頭廠家的技術原理是在冷陰極真空弧光放電理論的基礎上研究出來的。而通過分析冷陰極真空弧光放電理論可知，通過放電活動中的“正離子電流機制”與“場電子發(fā)射機制”兩者間的相互影響與制約可實現(xiàn)電量遷移。那么于此放電活動中的陰極物料需要大量蒸發(fā)，活動產生的諸多蒸氣分子會生成一些正離子，這些離子能夠在陰極附近產生強電場，從而促進影響電子觸發(fā)“場電子發(fā)射機制”，最終導致電子發(fā)射到真空環(huán)境。