北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
雙層光刻膠-Futurrex-低溫光刻膠品牌
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生產(chǎn)加工
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北京市大興區(qū)
主營產(chǎn)品
光刻膠國內(nèi)研發(fā)現(xiàn)狀
“造成與國際水平差距的原因很多。過去由于我國在開始規(guī)劃發(fā)展集成電路產(chǎn)業(yè)上,布局不合理、不完整,特別是生產(chǎn)加工環(huán)節(jié)的投資,而忽視了重要的基礎(chǔ)材料、裝備與應(yīng)用研究。目前,整個產(chǎn)業(yè)是中間加工環(huán)節(jié)強,前后兩端弱,核心技術(shù)至今被TOK、JSR、住友化學(xué)、信越化學(xué)等日本企業(yè)所壟斷。
光刻膠的主要技術(shù)指標(biāo)有解析度、顯影時間、異物數(shù)量、附著力、阻抗等。每一項技術(shù)指標(biāo)都很重要,必須全部指標(biāo)達到才能使用。因此,國外企業(yè)在配方、生產(chǎn)工藝技術(shù)等方面,對中國長期保密。中國的研發(fā)技術(shù)有待進一步發(fā)展
PR1-1500A1光刻膠
6,堅膜
堅膜也叫后烘,是為了去除由于顯影液的浸泡引起膠膜軟化、溶脹現(xiàn)象,能使膠膜附著能力增強,康腐蝕能力提高。
堅膜溫度通常情況高于前烘和曝光后烘烤的溫度 100-140度 10-30min
7,顯影檢驗
光刻膠鉆蝕、圖像尺寸變化、套刻對準(zhǔn)不良、光刻膠膜損傷、線條是否齊、陡
小孔、小島。
NR9-3000PY 相對于其他光刻膠具有如下優(yōu)勢: - 優(yōu)異的分辨率性能 - 快速地顯影 - 可以通過調(diào)節(jié)曝光能量很容易地調(diào)節(jié)倒梯形側(cè)壁的角度 - 耐受溫度100℃ - 室溫儲存保質(zhì)期長達3 年
光刻膠
按感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu),光刻膠可分為光聚合型光刻膠、光分解型光刻膠和光交聯(lián)型光刻膠。在應(yīng)用中,采用不同單體可以形成正、負(fù)圖案,并可在光刻過程中改變材料溶解性、抗蝕性等。
光聚合型光刻膠
烯類,在光作用下生成自由基,自由基再進一步引發(fā)單體聚合。
光分解型光刻膠
疊氮醌類化合物,經(jīng)光照后,會發(fā)生光分解反應(yīng),由油溶性變?yōu)樗苄浴?
光交聯(lián)型光刻膠
聚乙烯醇月桂酸酯,在光的作用下,分子中的雙鍵打開,鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián),形成一種不溶性的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)從而起到抗蝕作用。
按曝光波長,光刻膠可分為紫外(300~450 nm)光刻膠、深紫外(160~280 nm)光刻膠、極紫外(EUV,13.5 nm)光刻膠、電子束光刻膠、離子束光刻膠、X 射線光刻膠等。
按應(yīng)用領(lǐng)域,光刻膠可分為PCB 光刻膠、LCD 光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠等。PCB 光刻膠技術(shù)壁壘相對其他兩類較低,而半導(dǎo)體光刻膠代表著光刻膠技術(shù)的水平。