實(shí)驗(yàn)室用掩膜板 微納科研掩膜版?zhèn)€性加工
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材質(zhì) 不銹鋼、鎳、鉬
材質(zhì)厚度 0.05-3mm
加工精度 ±20um
加工面積 300*300mm
服務(wù)區(qū)域 全國(guó)不銹鋼、鎳、鉬
商品介紹


實(shí)驗(yàn)室用掩膜板 微納科研掩膜版?zhèn)€性加工

金屬M(fèi)ASK的精密度:0.001MM至0.08MM,誤差正負(fù)0.001MM,小線寬0.025mm
華諾恒宇公司   可做的金屬M(fèi)ASK厚度有以下幾種:0.01,0.025,0.03,0.038,0.04,0.05,0.075,0.08,0.1,0.25,0.3,0.5,0.75,0.1,1.5mm
主營(yíng)產(chǎn)品
 精密金屬片、無(wú)連接點(diǎn)LOGO、無(wú)連接點(diǎn)精密墊片、精密喇叭網(wǎng)、打印機(jī)電、金屬碼盤(pán)、貼膜墊片、貼膜鋼片、貼膜不銹鋼片、掩模板、光柵片、過(guò)濾網(wǎng)、防塵網(wǎng)、鋁材工藝品、不銹鋼工藝品、精密彈片、打印機(jī)配件、引線框架、銀行柜員機(jī)配件等激光精密切割產(chǎn)品生產(chǎn)及銷(xiāo)售

 

專(zhuān)注于生產(chǎn)精密五金、IT產(chǎn)品配件、打印機(jī)配件、汽車(chē)配件、電器配件及工藝品產(chǎn)品的加工,公司產(chǎn)品取得了客戶(hù)的一致認(rèn)可, 如:聯(lián)想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶(hù)的認(rèn)可。
光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并定位,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機(jī)電系統(tǒng))等。

光刻掩膜版(又稱(chēng)光罩,英文為Mask Reticle),簡(jiǎn)稱(chēng)掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過(guò)制版工藝加工獲得,常用加工設(shè)備為直寫(xiě)式光刻設(shè)備,如激光直寫(xiě)光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機(jī)電系統(tǒng))等。


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天津公司位于天津西青區(qū)海泰發(fā)展二路
北京公司位于豐臺(tái)區(qū)南三環(huán)玉泉營(yíng)
華諾普銳斯光能科技有限公司,曹經(jīng)理 期待你的來(lái)電,我們將竭誠(chéng)為您服務(wù)??!

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