有二氮化二鈦(Ti2N2)和四氮化三鈦(Ti3N4)兩種。二氮化二鈦為黃色固體。溶于煮沸的王水。遇到熱的則有氨放出。四氮化三鈦的性質(zhì)與二氮化二鈦相似。

【制備或來源】可由鈦和氮在1200℃直接反應(yīng)制得。涂層可由、氮?dú)狻錃饣旌蠚怏w通過氣相沉積法形成。二氮化二鈦由金屬鈦在900～1000℃的氮或氨中加熱而得。四氮三鈦由在1000℃的氨中加熱而得。

近十多年來，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是快的，它已經(jīng)成為當(dāng)今的表面處理方式之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。

PVD鍍膜技術(shù)的原理

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學(xué)電鍍（水電鍍）的異同

PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學(xué)電鍍的相同點(diǎn)是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點(diǎn)是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。