光刻掩膜板-shadow-mask-狹縫片
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北京華諾恒宇光能科技有限公司
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商品介紹
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品牌 華諾激光
重復(fù)精度 ±20μm
最小切割線寬 15μm
劃線速度 200mm/s
切割厚度 ≤2mm
加工幅面 300*500mm
聚焦光斑 2-20μm
可切割材質(zhì) 金屬、玻璃、硅片、復(fù)合材料、金屬薄膜
激光設(shè)備 紅外、紫外、綠光
波長(zhǎng) 納秒、皮秒
商品介紹
光刻掩膜板 shadow mask 狹縫片 生產(chǎn)加工 誤差小精度高—華諾激光
華諾激光是一家集專業(yè)從事金屬精密加工、生產(chǎn)及銷售制造商!公司專注于生產(chǎn)精密五金、IT產(chǎn)品配件、打印機(jī)配件、汽車配件、電器配件及工藝品產(chǎn)品的加工,公司產(chǎn)品取得了客戶的一致認(rèn)可, 如:聯(lián)想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認(rèn)可。
專注于生產(chǎn)精密五金、IT產(chǎn)品配件、打印機(jī)配件、汽車配件、電器配件及工藝品產(chǎn)品的加工,公司產(chǎn)品取得了客戶的一致認(rèn)可, 如:聯(lián)想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認(rèn)可。
光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位,以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機(jī)電系統(tǒng))等。
光刻掩膜版(又稱光罩,英文為Mask Reticle),簡(jiǎn)稱掩膜版,是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過(guò)制版工藝加工獲得,常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備,如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛,在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版,如IC(Integrated Circuit,集成電路)、FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards,印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems,微機(jī)電系統(tǒng))等。
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天津公司位于天津西青區(qū)海泰發(fā)展二路
北京公司位于豐臺(tái)區(qū)南三環(huán)玉泉營(yíng)
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