大族激光科技產(chǎn)業(yè)集團股份有限公司
主營產(chǎn)品: 激光加工設(shè)備, 自動化配套, 等離子設(shè)備, 機器人
ICP感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機-大族等離子清洗機
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廣東省深圳市
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感應(yīng)耦合等離子刻蝕機(Inductively CoupledPlasma Etch,簡稱ICPE)是化學過程和物理過程共同作用的結(jié)果。它的基本原理是在真空低氣壓下,ICP 射頻電源產(chǎn)生的射頻輸出到環(huán)形耦合線圈,以一定比例的混合刻蝕氣體經(jīng)耦合輝光放電,產(chǎn)生高密度的等離子體,在下電極的RF 射頻作用下,這些等離子體對基片表面進行轟擊,基片圖形區(qū)域的半導體材料的化學鍵被打斷,與刻蝕氣體生成揮發(fā)性物質(zhì),以氣體形式脫離基片,從真空管路被抽走。
結(jié)構(gòu)ICP 設(shè)備主要包括預真空室、刻蝕腔、供氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)四部分。
(1)預真空室
預真空室的作用是確??涛g腔內(nèi)維持在設(shè)定的真空度,不受外界環(huán)境(如:粉塵、水汽)的影響,將危險性氣體與潔凈廠房隔離開來。它由蓋板、機械手、傳動機構(gòu)、隔離門等組成。
(2)刻蝕腔體
刻蝕腔體是ICP 刻蝕設(shè)備的核心結(jié)構(gòu),它對刻蝕速率、刻蝕的垂直度以及粗糙度都有直接的影響。刻蝕腔的主要組成有:上電極、ICP 射頻單元、RF 射頻單元、下電極系統(tǒng)、控溫系統(tǒng)等組成。
(3)供氣系統(tǒng)
供氣系統(tǒng)是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕氣體,通過壓力控制器(PC)和質(zhì)量流量控制器(MFC)精準的控制氣體的流速和流量。氣體供應(yīng)系統(tǒng)由氣源瓶、氣體輸送管道、控制系統(tǒng)、混合單元等組成。
(4)真空系統(tǒng)
真空系統(tǒng)有兩套,分別用于預真空室和刻蝕腔體。預真空室由機械泵單獨抽真空,只有在預真空室真空度達到設(shè)定值時,才能打開隔離門,進行傳送片??涛g腔體的真空由機械泵和分子泵共同提供,刻蝕腔體反應(yīng)生成的氣體也由真空系統(tǒng)排空