超薄高精度掩模板 shadow mask 狹縫片 來圖加工 邊緣光滑—華諾激光掩模板加工
金屬MASK的精密度：0.001MM至0.08MM，誤差正負0.001MM，最小線寬0.025mm
華諾恒宇公司   可做的金屬MASK厚度有以下幾種：0.01,0.025,0.03,0.038,0.04,0.05,0.075,0.08,0.1,0.25,0.3,0.5,0.75,0.1,1.5mm
主營產(chǎn)品
精密金屬片、無連接點品牌LOGO、無連接點精密墊片、精密喇叭網(wǎng)、打印機電極、金屬碼盤、貼膜墊片、貼膜鋼片、貼膜不銹鋼片、掩模板、光柵片、過濾網(wǎng)、防塵網(wǎng)、鋁材工藝品、不銹鋼工藝品、精密彈片、打印機配件、引線框架、銀行柜員機配件等激光精密切割產(chǎn)品生產(chǎn)及銷售
專注于生產(chǎn)精密五金、IT產(chǎn)品配件、打印機配件、汽車配件、電器配件及工藝品產(chǎn)品的加工，公司產(chǎn)品取得了客戶的一致認可, 如:聯(lián)想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認可。
光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并精確定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統(tǒng)）等。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機、電子束光刻機等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統(tǒng)）等。
華諾激光是一家集專業(yè)從事金屬精密加工、生產(chǎn)及銷售制造商！公司專注于生產(chǎn)精密五金、IT產(chǎn)品配件、打印機配件、汽車配件、電器配件及工藝品產(chǎn)品的加工，公司產(chǎn)品取得了客戶的一致認可, 如:聯(lián)想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認可。
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