博華斯納米科技(寧波)有限公司
主營產(chǎn)品: 碳酸鹽, 金屬單質(zhì), 常規(guī)氧化物, 氮化物, 硅化物, 硫化物, 稀土氧化物, 碳化物
納米二氧化鈰分散液-二氧化鈰拋光拋光液體-研磨劑熱穩(wěn)定劑催化劑專用-BROFOS
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¥280.00
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店鋪主推品 熱銷潛力款
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博華斯納米科技(寧波)有限公司
店齡4年 企業(yè)認(rèn)證
聯(lián)系人
姜濤 總經(jīng)理
聯(lián)系電話
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經(jīng)營模式
生產(chǎn)廠家
所在地區(qū)
浙江省寧波市
主營產(chǎn)品
貨號 | 粒徑 | 參數(shù) | 溶劑 | 適用領(lǐng)域 |
Brofos-CeO2-2N100 | 100nm | 2N 濃度20% | 水 | 光學(xué)玻璃、保護(hù)片玻璃等精拋 |
Brofos-CeO2-2N200 | 200nm | 2N 濃度20% | 水 | 光學(xué)玻璃、保護(hù)片玻璃拋光等粗拋 |
Brofos-CeO2-2N500 | 500nm | 2N 濃度20% | 水 | 磨耗度200-300光學(xué)玻璃精拋光 |
Brofos-CeO2-3N030 | 30nm | 3N 濃度20% | 水 | 單晶硅精拋光、軟材質(zhì)玻璃精拋(磨耗度大于450)流系玻璃 |
Brofos-CeO2-3N100 | 100nm | 3N 濃度20% | 水 | K9、藍(lán)玻璃濾光片、紅外濾光片精拋 |
Brofos-CeO2-3N200 | 200nm | 3N 濃度20% | 水 | K9、BK7、B270、石英等光學(xué)玻璃半精拋 |
Brofos-CeO2-3N500 | 500nm | 3N 濃度20% | 水 | 藍(lán)玻璃濾光片、紅外濾光片等粗拋 |
Brofos-CeO2-4N100 | 100nm | 4N 濃度20% | 水 | 單晶硅多晶硅、石英玻璃晶圓、激光晶體等半精拋 |
Brofos-CeO2-4N200 | 200nm | 4N 濃度20% | 水 | 單晶硅多晶硅、石英玻璃晶圓、激光晶體等粗拋 |
Brofos-CeO2-5N030 | 30nm | 5N 濃度20% | 水 | 硅、石英晶圓精拋光、精密光學(xué)拋光、伸化家等半導(dǎo)體領(lǐng)域化合物(Ra0.1-0.2nm) |
Brofos-CeO2-5N100 | 100nm | 5N 濃度20% | 水 | 硅、石英晶圓精拋光、精密光學(xué)拋光、神化家等半導(dǎo)體領(lǐng)域化合物(基于不同粗糙度要求0.5-0.6nm) |
備注:如用戶需求其他粒度規(guī)格的產(chǎn)品,公司提供定制化生產(chǎn),價格合理歡迎咨詢。 |
產(chǎn)品簡介:
該產(chǎn)品采用氧化鈰拋光粉為主要原料,在嚴(yán)格控制粒徑、改善粒子表面特性和利用化學(xué)增強拋光原理的基礎(chǔ)上所開發(fā)的適合光學(xué)精密件穩(wěn)定拋光的一款新產(chǎn)品;該產(chǎn)品懸浮體系穩(wěn)定,被拋光工件表面穩(wěn)定,粗糙度低,進(jìn)而全面提升產(chǎn)品表面質(zhì)量,降低總體生產(chǎn)成本。與傳統(tǒng)拋光粉相比,拋光液使用簡便、拋光表面易清洗、無拋光設(shè)備腐蝕、在拋光機以及拋光墊上無沉積。
產(chǎn)品特性:
1.顆粒分散均勻,不團(tuán)聚,有效避免拋光過程中由于顆粒團(tuán)聚導(dǎo)致的工件表面劃傷缺陷;
2.顆粒粒徑分布適中,最大程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率,可以提高拋光精度,
3.運用拋光過程中的化學(xué)新作用,提高拋光速度,改善拋光表面的質(zhì)量;
4.低VOC配方,使用過程避免粉塵產(chǎn)生,關(guān)注環(huán)保和人體健康安全
應(yīng)用領(lǐng)域:
1.適用于dsti-cmp,集成電路光掩模,高精度光學(xué)儀器,光學(xué)透鏡,LCD,多芯光纖連接器,玻璃陶瓷基板,晶體表面等的精密拋光。
2.高效催化劑,精密拋光,化工助劑,電子陶瓷,結(jié)構(gòu)陶瓷,紫外線吸收劑,電池材料。
3.合金鍍層︰添加在鋅鎳、鋅鉆和鋅鐵合金中改變鋅的電結(jié)晶過程,促使晶面產(chǎn)生擇優(yōu)取向,鍍層組織更均勻、更致密,從而提高鍍層耐蝕性。
4.精細(xì)功能陶瓷﹔添加于陶瓷中可較低燒結(jié)溫度,抑制晶格生長,提高陶瓷的致密性。
5.作為塑料潤滑劑,提高塑料的潤滑系數(shù)。
6.聚合物:可增加聚合物的熱穩(wěn)定性和抗老化性。
7.用作塑料,橡膠的熱穩(wěn)定劑和抗老化劑。