京邁研靶材小店
主營(yíng)產(chǎn)品: 金屬靶材,陶瓷靶材和合金靶材
京邁研3521-氧化鉍靶材-Bi2O3磁控濺射材料-電子束鍍膜蒸發(fā)料
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京邁研3521 氧化鉍靶材 Bi2O3磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發(fā)料
【參數(shù)說(shuō)明】
支持靶材定制,請(qǐng)?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例(重量比或原子比)、規(guī)格,我們會(huì)盡快為您報(bào)價(jià)??!
【產(chǎn)品介紹】
氧化鉍又稱為三氧化二鉍,其分子式為Bi2O3的無(wú)機(jī)化合物,是鉍最重要的化合物之一,雖然三氧化二鉍可以從天然的鉍華(一種礦物)取得,但是它主要的來(lái)源通常是煉銅或鉛時(shí)的副產(chǎn)物,或直接燃燒鉍(藍(lán)色火焰)得到。
中文名 | 氧化鉍 | 熔點(diǎn) | 824°C |
化學(xué)式 | Bi2O3 | 沸點(diǎn) | 1890°C |
分子量 | 465.96 | 密度 | 8.9 g/cm3 固 |
【關(guān)于我們】
服務(wù)項(xiàng)目:靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制??蒲袉挝回浀礁犊?,質(zhì)量保證,售后無(wú)憂!
產(chǎn)品附件:發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝
適用儀器:多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備
質(zhì)量控制:嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝,采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測(cè)手段,分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度;可提供質(zhì)檢報(bào)告。
加工流程:熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測(cè)→包裝出庫(kù)
陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導(dǎo)熱性差,連續(xù)長(zhǎng)時(shí)間濺射易發(fā)生靶裂情況,綁定背靶后,可提高化合物靶材的導(dǎo)熱性能,提高靶材的使用壽命。我們強(qiáng)烈建議您,選購(gòu)陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶!
我公司采用高純銦作為焊料,銦焊厚度約為0.2mm,高純無(wú)氧銅作為背靶。
注 :高純銦的熔點(diǎn)約為156℃,靶材工作溫度超過(guò)熔點(diǎn)會(huì)導(dǎo)致銦熔化!綁定背靶不影響靶材的正常使用!
建議:陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材,高功率下濺射易碎,建議濺射功率不超過(guò)3W/cm2。
我公司主營(yíng)金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材,歡迎您的垂詢。