成都高精度光刻機價格-成都光刻機廠商-鑫南光-快速-優(yōu)質(zhì)-優(yōu)價
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主要構(gòu)成
主要由對準工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、LED曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。
主要技術(shù)指標:
1、曝光類型:單面;配置4"LED用曝光頭
2、曝光面積:110×110mm;
3、曝光照度不均勻性:≤±3%;
4、曝光強度:0~30mw/cm2可調(diào);
5、紫外光束角:≤3?0?8;
6、紫外光中心波長:365nm;
7、紫外光源時間:≥2萬小時;
8、采用電子快門;
9、曝光分辨率:1μm
10、顯微鏡掃描范圍:X: ±15mm Y:±15mm;
11、對準范圍:X、Y 調(diào)節(jié) ±4mm;Q向調(diào)節(jié)±3°;
12、套刻精度:1μm;
13、分離量;0~50μm可調(diào);
14、曝光方式:接觸式曝光,可實現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光;
15、找平方式:氣浮找平;
16、掩模版尺寸:≤127×127mm;
17、基片尺寸:≤Φ102mm(或者102×102mm);
18、基片厚度:≤5 mm;
19、曝光定時:0~999.9秒可調(diào);
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