隨著光源、數(shù)字傳感器和鍍膜機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展，光學(xué)濾光片也自然而然地隨之發(fā)展并不斷進(jìn)步。光學(xué)濾光片對(duì)于自動(dòng)化、能源、醫(yī)療成像、安保和多元件光學(xué)系統(tǒng)中需求最嚴(yán)苛的一些應(yīng)用非常關(guān)鍵。

        這些發(fā)展需要開發(fā)新基底（例如柔性薄膜聚合物，以及包括硅與鍺在內(nèi)的紅外級(jí)材料），或采用產(chǎn)生高透射率的新化學(xué)品與化合物，以及在紫外與紅外光譜內(nèi)具有高截止率的濾光片。鍍膜機(jī)技術(shù)的進(jìn)步帶來了精度更高的濾光片，這些濾光片能產(chǎn)生<1nm的帶寬，而公差<1%，這真正將頂級(jí)分光光度計(jì)的功能發(fā)揮到了極致。隨著每項(xiàng)技術(shù)的進(jìn)步，公差與規(guī)格已進(jìn)一步獲得優(yōu)化，從而產(chǎn)生表面質(zhì)量、表面平整度、平行度及傳輸波前更好的精密基底。

       在幾乎每項(xiàng)消費(fèi)應(yīng)用和科學(xué)應(yīng)用中，新材料、亞納米規(guī)格、深紫外到遠(yuǎn)紅外的光譜范圍以及經(jīng)過改善的各種公差將不斷推動(dòng)光學(xué)和光電子學(xué)的發(fā)展。