氟化銨

英文名 Ammonium fluoride

分子式 NH4F

分子量 37.04

CAS號 12125-01-8

用于制備一種非離子型低表面張力的酸性氟化銨蝕刻液TFT 基板上設置有大量的薄膜、薄層，所以為了防止這些之間發(fā)生不希望的電短路，優(yōu)選將蝕刻后的基板的切斷側面即蝕刻輪廓 (profile) 均等地傾斜，且下方比上方寬，為鈍錐 (taper) 形狀。這是由于蝕刻輪廓為鈍錐形狀的情況下，所形成的 2 個以上的薄膜層之間的高度差會減少。蝕刻方法具有利用氣體的干式蝕刻和利用蝕刻液的濕式蝕刻，盡管濕式蝕刻具有缺點，但是其工序所需的設備投資費用低，無需將蝕刻環(huán)境維持在高真空狀態(tài)，對掩模和基板均有優(yōu)異的蝕刻選擇性。主要成分為氫氟酸（HF）和氟化銨（NH4F）的酸性氟化銨蝕刻液又稱為B.O.E. (Buffered Oxide Etch)蝕刻液，在半導體工業(yè)中也常廣泛使用于蝕刻無光刻膠護罩的氧化層。

CN201310677422.8提供一種不含金屬離子，不易殘留，且表面張力小，滲透性強的非離子型低表面張力的酸性氟化銨蝕刻液。本發(fā)明的技術方案為：一種非離子型低表面張力的酸性氟化銨蝕刻液，其特征在于，所述非離子型低表面張力的酸性氟化銨蝕刻液由下列組分組成，所述組分的質量百分含量為：

氟化氫（HF）：         5~15%；

氟化銨（NH4F）：       20~40%；

添加劑：               0.01~0.1%；

去離子水               余量；

EINECS 235-185-9

密  度 1.11 g/mL

沸  點 65°C

熔  點 98°C

性 狀 白色結晶狀粉末，易潮解

溶解性 溶于冷水，溶液呈酸性，微溶于乙醇，受熱或遇溫水即分解，對玻璃有腐蝕性

用 途：

1、用作玻璃蝕刻劑、防腐劑、劑、纖維媒染劑等。

2、用作金屬表面的化學拋光劑、也用于提取稀有元素等。

3、用作分析試劑、掩蔽劑。

4、氟化銨也可用于鈦及硅片的蝕刻，用于鈦的蝕刻需要在蝕刻液中添加硝酸或鉻酐等氧化物質以防止氫脆的發(fā)生。

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