無錫吉致電子25年研發(fā)生產——碳化硅晶圓拋光液/硅襯底SIC拋光液/半導體拋光液/CMP化學機械拋光液/硅襯底拋光液/slurry拋光液

產品簡介：為電力電子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化學機械平坦化配制的拋光液。CMP拋光液大大提高了碳化硅晶圓表面去除率和平坦化性能，提供了非常好的表面光潔度

吉致電子碳化硅晶圓Slurry拋光液使用方法：

1.可根據(jù)拋光操作條件用去離子水進行5-20倍稀釋。

2.稀釋后，粗拋時調節(jié)PH11左右，精拋時調節(jié)PH9.5左右。pH調節(jié)可以用10%的鹽酸、醋酸、檸檬酸、KOH或氨水在充分攪拌下慢慢加入。

3.循環(huán)拋光可以用原液。

吉致電子碳化硅晶圓Slurry拋光液儲存方法：

1.貯存時應避免曝曬，貯存溫度為5-35℃

2.低于0℃以上儲存，防止結冰，在無度以下因產生不可再分散結塊而失效。

3.避免敞口長期與空氣接觸。

吉致電子碳化硅晶圓Slurry拋光液價格：

吉致電子的碳化硅晶圓拋光液生產技術是引進國外生產技術和設備，特殊化學配方制備而成。吉致電子拋光液品質可以媲美進口同類產品。

本土化生產使得吉致電子CMP拋光液產品交貨周期快，品質好，拋光液價格親民。

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