一、設(shè)備概述

    平行光源單面雙工位曝光機(jī)專門用于FILM黃光制程而設(shè)計(jì)制作的專用設(shè)備，

系統(tǒng)采用進(jìn)口平行光源、雙工位抽屜進(jìn)出曝光平臺交替工作進(jìn)行FILM濕膜、干

膜曝光。雙工位平臺真空吸附將FILM與MASK貼緊，曝光解析度20UM。

二、設(shè)備規(guī)格以及主要技術(shù)指標(biāo)
◆產(chǎn)品規(guī)格:有效曝光面積400MMx500MM
◆曝光平臺面積：500MMx600MM

◆電源: AC380V 3f 50HZ 7KVA
◆機(jī)臺外尺寸: W1350MMxL3250MMxH2350MM

◆曝光方式:單面曝光玻璃VS玻璃x2組，采用電磁鎖控制

◆光學(xué)系統(tǒng):采用進(jìn)口曲面MIRROR反射光學(xué)系統(tǒng)

◆冷卻系統(tǒng):燈管:外部冰水冷卻內(nèi)循環(huán)水.
       臺面:強(qiáng)制氣冷式
◆曝光控制器:智慧型人機(jī)界面及曝光能量控制(能量模式及時(shí)間模式)

◆真空系統(tǒng):400MMHG以上

◆燈源:UV能量積分器進(jìn)行曝光能量設(shè)置和控制主動風(fēng)冷式降溫保護(hù)

(有緊急停止保護(hù))

◆空壓系統(tǒng):4-7KF/CM2,中12MM, 200L /MIN

◆平行半角:DA<2。
◆曝光精度:線路寬30UM，線間距30UM

◆曝光能量設(shè)置:365NM
◆點(diǎn)燈計(jì)時(shí):配置時(shí)間計(jì)時(shí)器，可清零

◆平臺平面精度:0.02MM內(nèi)
◆平臺真空:平臺真空將FILM與MASK貼緊(使用鉻版時(shí)可不用）
◆平臺進(jìn)出曝光區(qū):上下框架交替進(jìn)出

◆機(jī)內(nèi)環(huán)境: CL ASS100內(nèi)

◆檢測系統(tǒng):程序及傳感器檢測動作到位狀況
◆燈管保護(hù):燈室過熱檢知及門打開時(shí)UV燈強(qiáng)制熄滅