一、設(shè)備用途

    用于熔煉高熔點金屬/合金，采用熔態(tài)單輥旋淬法制備條帶非晶材料，以及真空噴/吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進行真空冶金新材料的科研與小批量生產(chǎn)。

二、設(shè)備組成

    主要由真空獲得及測量系統(tǒng)、單輥旋淬條帶制備系統(tǒng)、噴鑄系統(tǒng)、電弧熔煉、吸鑄系統(tǒng)、工作氣路、電控系統(tǒng)及安裝機臺等組成。

三、主要技術(shù)參數(shù)：

1 . 電弧熔煉 技術(shù)數(shù)據(jù)：

電弧熔煉部分：   2.1 手動 電弧槍升降，手動自由擺動，采用波紋管密封；   2.2所有重要控制功能整合到控制盒內(nèi)；   2.3所有熔煉工位（吸鑄工位除外）具有電磁攪拌功能；   2.4機械手可原位翻轉(zhuǎn)或轉(zhuǎn)移小樣品；  2.5無接觸高壓、高頻電弧點火；   2.6雙層水冷真空室；

2. 真空甩帶 技術(shù)數(shù)據(jù)：

2.1典型的薄片厚度20- 60μm，寬度可在1~ 7 0mm   

2.2坩堝手動調(diào)節(jié)機構(gòu)   

2.3銅制輥輪，大速度 300 0 轉(zhuǎn)/ min ，伺服驅(qū)動， 100g以上容量需加水冷   

2.4銅輥轉(zhuǎn)軸采用磁流體密封   

2.5 感應(yīng)熔煉電源功率 15kw~ 35kw   

2.6設(shè)備配備注射及噴鑄用氬氣罐   

2.7坩堝材料可選擇石英/氮化硼/石墨等   

2. 8   手動傾轉(zhuǎn)澆鑄機構(gòu)              選配   

2. 9 噴鑄裝置及模具                選配   

2.1 0 紅外測溫儀                   選配