ADVANCED離子束刻蝕系統(tǒng)金屬材料刻蝕
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類型 離子束刻蝕系統(tǒng)
品牌 ADVANCED
型號 ADVANCED
刻蝕速率 200nm/min
基片尺寸 ≤4英寸
刻蝕氣體 Ar
刻蝕均勻性與重復性 3英寸襯底均勻性優(yōu)于±5% ，重復性優(yōu)于±5%
是否跨境 是
商品介紹

離子束刻蝕系統(tǒng)

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一、離子束刻蝕系統(tǒng)產品簡介

離子束刻蝕系統(tǒng)的基本原理是利用輝光放電原理將氬氣分解為氬離子，氬離子經過陽極電場的加速對樣品表面進行物理轟擊，以達到刻蝕的作用。把Ar氣充入離子源放電室并使其電離形成等離子體，然后由柵極將離子呈束狀引出并加速，具有一定能量的離子束進入工作室，射向固體表面轟擊固體表面原子，使材料原子發(fā)生濺射，達到刻蝕目的，屬純物理刻蝕。


二、離子束刻蝕系統(tǒng)主要技術指標：

1.極限真空：9′10-5Pa

2.刻蝕均勻性與重復性：3英寸襯底均勻性優(yōu)于±5% ，重復性優(yōu)于±5%

3.刻蝕速率:200nm/min

4.基片尺寸：≤4英寸

5.刻蝕氣體：:Ar


三、離子束刻蝕系統(tǒng)主要用途主要用于金屬材料的刻蝕


  






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公司名稱 北京華測試驗儀器有限公司
聯(lián)系賣家 肖工 （QQ：479014311）
電話 ῧῡῧ-ῢῠΰῠῧῡῡῥ
手機 ῡ῟῟ῥῡῠῢῧῨῤῠ
地址 北京市海淀區(qū)
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