干貨分享！鋼研納克國產(chǎn)ICP應(yīng)用技術(shù)培訓(xùn)班，厲害了！
2019年11月29日，由鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司儀器中心主辦的“國產(chǎn)ICP應(yīng)用技術(shù)培訓(xùn)班暨鋼研納克ICP老用戶交流會(huì)”在寧波泛太平洋酒店舉行，鋼研納克寧波地區(qū)ICP新老用戶受邀參加了此次培訓(xùn)。
鋼研納克儀器中心副總經(jīng)理于兆斌在培訓(xùn)班開幕式上致賀詞，歡迎寧波地區(qū)客戶參加此次培訓(xùn)，同時(shí)介紹了鋼研納克的公司背景與發(fā)展近況，希望以公司上市為契機(jī)，更好的做好服務(wù)用戶的工作，促進(jìn)行業(yè)檢測(cè)水平的提高。
會(huì)議由鋼研納克華東二區(qū)銷售總監(jiān)許頂主持，鋼研納克ICP資深產(chǎn)品經(jīng)理屈華陽做了ICP基本原理與產(chǎn)品介紹的報(bào)告。ICP產(chǎn)品資深售后工程師唐曉林做了ICP操作維護(hù)和國產(chǎn)ICP在釹鐵硼檢測(cè)方法解讀的報(bào)告，重點(diǎn)介紹了釹鐵硼檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)方法（鋼研納克參與制定），包括溶樣過程，配線技巧，建議譜線，檢測(cè)注意事項(xiàng)，儀器性能對(duì)比等內(nèi)容，同時(shí)為行業(yè)用戶提供了釹鐵硼行業(yè)常用的原輔料的檢測(cè)方法。
鋼研納克售后工程師崔朝輝做了“磁性材料中ONH元素的檢測(cè)”的報(bào)告，實(shí)戰(zhàn)分享釹鐵硼中O,H 元素的檢測(cè)方法和技巧。同時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)事業(yè)部標(biāo)液研發(fā)主管 李海平，分享了標(biāo)準(zhǔn)溶液的制作過程，干擾元素影響判別的一般方法，為客戶日常檢測(cè)提供了一種實(shí)用方法和技巧，同時(shí)為行業(yè)用戶提供了釹鐵硼行業(yè)常用的原輔料的檢測(cè)方法。
培訓(xùn)答疑環(huán)節(jié)，現(xiàn)場(chǎng)氣氛非常熱烈。參會(huì)人員表示，通過此次培訓(xùn)，不但更深入地學(xué)習(xí)了ICP技術(shù)原理，了解了國產(chǎn)ICP的快速發(fā)展和進(jìn)步，更學(xué)到了非常實(shí)用的檢測(cè)方法，解決了工作中遇到的困惑和問題。培訓(xùn)結(jié)束后，學(xué)員學(xué)習(xí)熱情不減，利用會(huì)議間隙向老師咨詢檢測(cè)方法，將學(xué)習(xí)交流延伸到課堂之外。

由鋼研納克承擔(dān)的國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項(xiàng)“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”取得重要進(jìn)展。本專項(xiàng)開發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目前二維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題，接近于商品水平的產(chǎn)品樣機(jī)將于年內(nèi)完成；ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機(jī)已成功組裝和調(diào)試，采集到正確的譜圖，這一突破標(biāo)志著在第二代樣機(jī)上采用的自主設(shè)計(jì)的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個(gè)關(guān)鍵、難點(diǎn)技術(shù)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)原理攻克。為高質(zhì)量、按期完成項(xiàng)目任務(wù)和本單位新產(chǎn)品開發(fā)任務(wù)奠定了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

鋼研納克雙向觀測(cè)Plasma 3000 ICP光譜儀分析性能：
檢 出 限：亞 ppb- ppb 短期穩(wěn)定性：RSD ≤ 0.5%（1mg/L） 長期穩(wěn)定性：RSD ≤ 1.0%（4h，1mg/L）
光 源
自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，功率連續(xù) 1 瓦可調(diào) 震蕩頻率：27.12MHz
輸出功率：700W-1600W 功率穩(wěn)定性：< 0.1%
儀器規(guī)格
尺寸：寬 x 深 x 高（106cm x 67cm x 75cm） 重 量：約 180kg
光學(xué)系統(tǒng)
分析譜線范圍：165-950nm
分 辨 率： 0.007nm@200nm 光室恒溫：38℃ ±0.1℃
CCD 像素：1024x 1024
單像素面積：24μm x 24μm
工作環(huán)境
實(shí)驗(yàn)室濕度環(huán)境：相對(duì)濕度 20%~80% 氬氣純度：不小于 99.95%
排 風(fēng)：不小于 400 立方米 / 小時(shí)
電 源：200V~240V AC 單相；50Hz~60Hz；4kVA

鋼研納克雙向觀測(cè)Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統(tǒng)
Plasma 3000ICP光譜儀采用徑向觀測(cè)與軸向觀測(cè)設(shè)計(jì)，適應(yīng)亞ppm到高含量的元素測(cè)量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu)，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。 優(yōu)化的光學(xué)設(shè)計(jì)，采用非球面光學(xué)元件，改善成像質(zhì)量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù)，縮短光室充氣時(shí)間，提高紫外光譜靈敏度及穩(wěn)定性，開機(jī)即可測(cè)量。 包圍式立體控溫系統(tǒng)，保障光學(xué)系統(tǒng)長期穩(wěn)定無漂移。
光源
固態(tài)射頻發(fā)生器，高效穩(wěn)定，體積小巧，效率高，匹配速度快，鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀能適應(yīng)各種復(fù)雜基體樣品及揮發(fā)性有機(jī)溶劑的測(cè)試，均能獲得優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。 垂直炬管的設(shè)計(jì)，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術(shù)，地降低自吸效應(yīng)和電離干擾，從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線性范圍和更 低的背景，保證準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。 具有綠色節(jié)能待機(jī)模式，待機(jī)時(shí)降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運(yùn)行，節(jié)約使用成本。
簡潔的炬管安裝定位設(shè)計(jì)，快速定位，精確的位置重現(xiàn)。 實(shí)時(shí)監(jiān)控儀器運(yùn)行參數(shù)，高性能CAN工業(yè)現(xiàn)場(chǎng)總線，保障通訊高效可靠。
進(jìn)樣系統(tǒng)
簡潔的炬管安裝設(shè)計(jì)，自動(dòng)定位炬管位置，精確的位置重現(xiàn)。鋼研納克Plasma 3000 ICP光譜儀配備系列經(jīng)過優(yōu)化的進(jìn)樣系統(tǒng)，可用于有機(jī)溶劑、高鹽/復(fù)雜基體樣品、含氫氟酸（HF） 等樣品的測(cè)試。
使用可拆卸式或一體式炬管，易于維護(hù)，轉(zhuǎn)換快速，使用成本低。Plasma 3000 ICP光譜儀使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測(cè)試性能長期穩(wěn)定。 多通道12滾輪蠕動(dòng)泵，提升樣品導(dǎo)入穩(wěn)定性。
檢測(cè)器
大面積背照式CCD檢測(cè)器,全譜段響應(yīng)，高紫外量子化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動(dòng)態(tài)范 圍和極快的信號(hào)處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號(hào)的采集讀取，從而獲得更為快速、準(zhǔn)確的分析結(jié)果。Plasma 3000 ICP光譜儀具有同類產(chǎn)品中靶面尺寸，百萬級(jí)像素，單像素面積24μm X 24μm，三級(jí)半導(dǎo)體制冷,制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩(wěn)定性。
軟件系統(tǒng)
人性化的界面設(shè)計(jì)，流暢易懂，簡便易用，針對(duì)分析應(yīng)用優(yōu)化的軟件系統(tǒng)，無須復(fù)雜的方法開發(fā)， 即可快速開展分析操作。
豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測(cè)方式設(shè)置，直觀的測(cè)試結(jié)果顯示。
安全防護(hù)
全方位電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護(hù)，避免用戶誤操作可能帶來的風(fēng)險(xiǎn) 防紫外觀測(cè)窗