北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
負(fù)光阻光刻膠公司-化學(xué)光刻膠供應(yīng)商-低溫光刻膠生產(chǎn)廠-Futurrex
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主營產(chǎn)品
微流控芯片硅片模具加工如何選擇光刻膠呢?
賽米萊德專業(yè)生產(chǎn)、銷售光刻膠,我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。
一般來說線寬的用正膠,線窄的用負(fù)膠,正性光刻膠比負(fù)性的精度要高,負(fù)膠顯影后圖形有漲縮,負(fù)性膠限制在2~3μm.,而正性膠的分辨力優(yōu)于0.5μm 導(dǎo)致影響精度,正性膠則無這方面的影響。雖然使用更薄的膠層厚度可以改善負(fù)性膠的分辨率,但是薄負(fù)性膠會影響。同種厚度的正負(fù)膠,在對于抗?jié)穹ê透g性方面負(fù)膠更勝一籌,正膠難以企及。汶顥科技提供AZ、SU_8、及其他系類光刻膠的供應(yīng)與技術(shù)參數(shù)。
以下是賽米萊德為您一起分享的內(nèi)容,賽米萊德專業(yè)生產(chǎn)光刻膠,歡迎新老客戶蒞臨。
光刻膠市場空間與半導(dǎo)體的分不開。2012-2018年全球半導(dǎo)體市場規(guī)模復(fù)合增速8.23%,在全球半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展下,全球半導(dǎo)體光刻膠市場持續(xù)增長。
而國內(nèi)市場,因全球半導(dǎo)體、液晶面板以及消費電子等產(chǎn)業(yè)向國內(nèi)轉(zhuǎn)移,對光刻膠需求量迅速增量。
但是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠,從全球光刻膠的市場競爭格局來看,光刻膠市場主要由日韓企業(yè)主導(dǎo),國內(nèi)企業(yè)市場份額集中在低端的PCB光刻膠上,高技術(shù)壁壘的LCD 和半導(dǎo)體光刻膠主要依賴進口。根據(jù)某些數(shù)據(jù)顯示,國內(nèi)光刻膠產(chǎn)值當(dāng)中,PCB光刻膠的占比高達95%,半導(dǎo)體光刻膠和LCD光刻膠產(chǎn)值占比都僅有2%。
由上分析可知,我國目前在光刻膠領(lǐng)域急需技術(shù)突破的。
光刻膠的主要技術(shù)參數(shù)
1、分辨率:區(qū)別硅片表面相鄰圖形特性的能力,一般用關(guān)鍵尺寸來衡量 分辨率。形成的關(guān)鍵尺寸越小,光刻膠的分辨率越好。
2、對比度:指光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過渡的陡度。對比度越好,形成圖形的側(cè)壁越陡峭,分辨率越好。
3、敏感度:光刻膠上產(chǎn)生一 個良好的圖形所需一 定波長的小能量值(或小曝光量)。單位:焦/平方厘米或mJ/cm2.光刻膠
的敏感性對于波長更短的深紫外光(DUV)、極深紫外光(EUV)等尤為重要。
4、粘滯性/黏度:衡量光刻膠流動特性的參數(shù)。粘滯性隨著光刻膠中的溶劑的減少而增加;高的粘滯性會產(chǎn)生厚的光刻膠;越小的
粘滯性,就有越均勻的光刻膠厚度。
5、粘附性:表征光刻膠粘著于襯底的強度。光刻膠的粘附性不足會導(dǎo)致硅片表面的圖形變形。
6、抗蝕性:光刻膠必須保持它的粘附性,在后續(xù)的刻蝕I序中保護襯底表面。
7、表面張力:液體中將表面分子拉向液體主體內(nèi)的分子間吸引力。光刻膠應(yīng)該具有比較小的表面張力,使光刻膠具有良好的流動性和覆蓋。
8、存儲和傳送:能量可以啟動光刻膠。應(yīng)該存儲在密閉、低溫、不透光的盒中。 同時必須規(guī)定光刻膠的閑置期限和存貯溫度環(huán)境。
以上內(nèi)容由賽米萊德為您提供,希望對同行業(yè)的朋友有所幫助!