再次執(zhí)行POP后，可以看到面3的網(wǎng)格寬度如同預(yù)期是30mm，將面9上的光束放大后可以看到中心遮擋區(qū)域的解析度有了很大的提升，像素造成的鋸齒邊緣缺陷也有了明顯的改善

在做了前面兩個(gè)改動(dòng)之后，可以看出直到面13（第二篇透鏡的后表面）為止，取樣率都是沒問題的。但是在像表面上的取樣率還是比較差。

由于光束從第二個(gè)透鏡后表面往后經(jīng)過很長(zhǎng)一段光程聚焦成一個(gè)點(diǎn)，因此在像面上的解析度會(huì)跟第二個(gè)透鏡的后表面上的網(wǎng)格寬度成反比，則增加第二個(gè)透鏡后表面上的網(wǎng)格寬度就可以解決像面上的取樣問題。

在“Beam Definition”中，我們需要設(shè)置一個(gè)NA是0.05的入射光線（對(duì)應(yīng)的束腰半徑為6.4 mm）。再設(shè)置一個(gè)1024 x 1024的采樣網(wǎng)格，X和Y方向的網(wǎng)格寬度為0.1mm。

在Display菜單內(nèi)，勾選“Save Output Beam To:”以及“Save Beam At All Surfaces”。勾選后針對(duì)每個(gè)表面系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)創(chuàng)建和保存一個(gè).ZBL文件，文件里包含了每個(gè)表面的電場(chǎng)信息。

對(duì)于隨機(jī)光線需要注意的是，我們必須在內(nèi)存中保存所有光源文件中的光線，因此較大的光源文件對(duì)內(nèi)存的要求較高。 當(dāng)我們運(yùn)行光線追跡后，光源的空間分布和角分布如下圖所示：

該數(shù)據(jù)文件相比徑向光源擁有更多更細(xì)節(jié)的空間分布和角分布信息。展示光源模型空間分布的方法是對(duì)反向追跡所生成光線的測(cè)試圖像進(jìn)行比較。 一種簡(jiǎn)單的查看光源空間分布的方法是在平面上生成光線，并在其后放置一個(gè)探測(cè)器。我們可以通過減小錐角（幾度）來提高分辨率， 并追跡大量的光線（一千萬根）：