金屬濺射靶材

中諾新材定制加工不同尺寸，不同純度的靶材，產(chǎn)品具備純度高。結(jié)構(gòu)致密，晶粒度小的特點(diǎn)，滿足客戶對高品質(zhì)靶材的需求。

高純金屬靶材，純度99.9-99.9999%。可提供圓靶，矩形靶，管靶等。

常規(guī)金屬靶材Al，Cu，Ti，Ni，Co，V，W，Mo，Ta，Ni

金屬靶材Ag Au Pt Pd Ru Rh Ir

稀土金屬靶材La Ce Pr Nd Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu

非金屬靶材B C Si Ge Se Te

合金靶材Ni-Cr Ni-V Ni-Ti W-Ti Ti-Al Cr-Al NiCrAlY……

以上產(chǎn)品純度99.9-99.9999%?？商峁﹫A靶，矩形靶，管靶等。

合金熔煉材料

隨著材料行業(yè)的快速發(fā)展，新型合金材料潛力巨大。高溫合金，高熵合金，非晶合金等各種特殊要求合金對熔煉原料的要求越來越高。中諾新材可根據(jù)客戶不同爐體坩堝對投料數(shù)量的要求，定制加工各種高純度，不同規(guī)格的金屬原料。

分類——常規(guī)規(guī)格——適用范圍

標(biāo)準(zhǔn)顆?！?*5mmφ3*3mmφ6*6mm 10*10*2mm——投料量小，純度要求高，配比要求準(zhǔn)確

破碎小塊——1-10mm 2-6mm 3-5mm——投料量小，純度要求較高，配比要求準(zhǔn)

切割大塊——1-3cm  3-5cm  ＜10cm——投料量大，純度要求高

批量塊錠——25kg/桶  100kg/件——投料量大，純度要求不高，可獨(dú)立加工處理

高純金屬蒸發(fā)材料

      蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應(yīng)商，中諾新材可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。同時(shí)，這些材料亦廣泛應(yīng)用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領(lǐng)域。

部分產(chǎn)品如下：

材料 純度(%) 狀態(tài)

高純鋁(Al) 99.999-99.9999 顆粒 粉末 絲狀 片狀  

高純銅(Cu) 99.99-99.9999 顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鈦(Ti) 99.5-99.999 顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鎳(Ni) 99.9-99.999 顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉻(Cr) 99.5-99.99 顆粒 粉末

高純鈷(Co) 99.95-99.99 顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鐵(Fe) 99.95-99.99 顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鎂(Mg) 99.95-99.99 顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉿(Hf) 99.95 顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鋯(Zr) 99.5-99.95 顆粒 粉末 塊狀

高純銦(In) 99.995-99.9999, 顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉭(Ta) 99.95-99.99 顆粒 粉末 絲狀，片狀

高純鈮(Nb) 99.95-99.99 顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉛(Pb) 99.99-99.999 顆粒 粉末 片狀

高純硒(Se) 99.99-99.9999 顆粒 粉末

高純碲(Te) 99.99-99.9999 顆粒 粉末

高純鍺(Ge) 99.9999 顆粒 粉末 片狀

高純硅(Si) 99.9999 顆粒 粉末 片狀

高純錫(Sn) 99.99-99.999 顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鋅(Zn) 99.99-99.9999 顆粒 粉末 片狀