日本Savina MX無(wú)塵布超細(xì)纖維無(wú)塵布Savina Minimax無(wú)塵擦拭布savinack無(wú)塵布

Savina MX超細(xì)纖維無(wú)塵布

日本原裝正品

Savina Minimax無(wú)塵擦拭布

Savina MX用于輕松應(yīng)對(duì)時(shí)代的需求，同時(shí)具備足以應(yīng)對(duì)要求高的潔凈室中的極，限無(wú)塵條件的出色功能.

Savina Minimax是日本KBSEIREN株式會(huì)社（原KANEBO）開(kāi)發(fā)的目前較高級(jí)的無(wú)塵擦拭布系列產(chǎn)品，吸水吸油性極，強(qiáng)，不磨損原件。廣泛用于光學(xué)鏡頭制造，辦公器材保養(yǎng)，10級(jí)以上的無(wú)塵車(chē)間凈化室，半導(dǎo)體生產(chǎn)線車(chē)間等領(lǐng)域。

高科技領(lǐng)域正日益精密和復(fù)雜。對(duì)于LSI和LCD等產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中所需的嚴(yán)格無(wú)塵環(huán)境而言，高效擦拭布是必備要素。Savina MX能夠輕松滿足時(shí)代需求，具有出色的功能，足以應(yīng)對(duì)超，級(jí)無(wú)塵室中的極，端無(wú)塵條件。

Savina MX用于輕松應(yīng)對(duì)時(shí)代的需求，同時(shí)具備足以應(yīng)對(duì)要求高的潔凈室中的極，限無(wú)塵條件的出色功能.Savina Minimax是日本KBSEIREN株式會(huì)社（原KANEBO）開(kāi)發(fā)的目前較高級(jí)的無(wú)塵擦拭布系列產(chǎn)品，吸水吸油性極，強(qiáng)，不磨損原件。廣泛用于光學(xué)鏡頭制造，辦公器材保養(yǎng)，10級(jí)以上的無(wú)塵車(chē)間凈化室，半導(dǎo)體生產(chǎn)線車(chē)間等領(lǐng)域。高科技領(lǐng)域正日益精密和復(fù)雜。對(duì)于LSI和LCD等產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中所需的嚴(yán)格無(wú)塵環(huán)境而言，高效擦拭布是必備要素。Savina MX能夠輕松滿足時(shí)代需求，具有出色的功能，足以應(yīng)對(duì)超，級(jí)無(wú)塵室中的極，端無(wú)塵條件。

無(wú)塵室中所使用的擦拭布應(yīng)當(dāng)能夠清潔所有儀器、器械和外圍設(shè)備，同時(shí)不會(huì)造成污染。擦拭布還要能夠吸收并清除多余的水分。Savina MX具備此類(lèi)擦拭布所需的所有屬性，是性能較好的擦拭布之一，專(zhuān)為高科技時(shí)代而設(shè)計(jì)。

Savina MX在專(zhuān)門(mén)的細(xì)針距針織機(jī)上編制而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達(dá)到其原始尺寸的40%。它未經(jīng)任何粘合劑處理，就達(dá)到了這樣的致密結(jié)構(gòu)。所得擦拭布表面積高達(dá)25,700 c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統(tǒng)擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/gSavina MX在專(zhuān)門(mén)的細(xì)針距針織機(jī)上編制而成，其坯布橫向和縱向的收縮率均達(dá)到其原始尺寸的40%。它未經(jīng)任何粘合劑處理，就達(dá)到了這樣的致密結(jié)構(gòu)。所得擦拭布表面積高達(dá)25,700 c㎡/g，從而確保了在不掉毛的情況下清除灰塵。而傳統(tǒng)擦拭布的表面積僅為2,420 c㎡/g

特點(diǎn)是：掉毛量極少。? 迅速而積極地吸收并留住水分。? 殘留離子和其他物質(zhì)的溶解率較低。? 具備高端的擦拭布性能（灰塵清除量較大，同時(shí)不會(huì)污染無(wú)塵室設(shè)備）。

用途：光磁盤(pán)、硬盤(pán)和軟盤(pán)的生產(chǎn)過(guò)程? 液晶偏轉(zhuǎn)板以及其他物品的生產(chǎn)過(guò)程? 光盤(pán)和磁盤(pán)的生產(chǎn)過(guò)程? 錄像機(jī)的生產(chǎn)過(guò)程? 隱形眼鏡的生產(chǎn)過(guò)程? 相機(jī)裝配線? 印刷電路板的清潔工藝? 相機(jī)鏡頭鍍膜前的清潔工藝? 藥品生產(chǎn)線清潔工藝? 電影膠片清潔工藝? 半導(dǎo)體和基礎(chǔ)電路的生產(chǎn)過(guò)程? 精密涂層之前工件的清潔過(guò)程