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腐蝕工藝制作需求通過制作電子文件、制作菲林片并通過感光藍(lán)油噴涂、感光作業(yè)、顯影、粘貼防腐膜、恒溫放置并通過腐蝕液腐蝕后構(gòu)成文字和圖形。腐蝕標(biāo)牌的工藝比較凌亂,而且要抵達(dá)圖像美麗、線條清楚、深度合適、底面平坦、色彩豐滿、拉絲均勻的要求。
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藍(lán)光同茂廣告標(biāo)牌設(shè)備公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)和銷售于一體的國內(nèi)高新企業(yè)。產(chǎn)品范圍包括:金屬雕刻機(jī),標(biāo)牌機(jī),銘牌機(jī),腐蝕機(jī),蝕刻機(jī),標(biāo)牌設(shè)備,電鍍?cè)O(shè)備,電鑄機(jī),電刷鍍機(jī),鍍金機(jī),堆金機(jī),電泳設(shè)備,上色機(jī),版畫機(jī),打標(biāo)機(jī),拋光機(jī),鋁氧化著色設(shè)備,數(shù)碼標(biāo)牌設(shè)備,3D彩印打印機(jī),大型3D熱轉(zhuǎn)移機(jī),立體玻雕機(jī)等,我公司致力于高質(zhì)量的產(chǎn)品和完善的技術(shù)服務(wù)活躍在各個(gè)領(lǐng)域。
點(diǎn)蝕對(duì)本書所討論的鋁合金表面紋理蝕刻的成因很重要,特別是對(duì)粗糙度較大的紋理蝕刻更為重要。可以說要研究鋁合金的化學(xué)紋理蝕刻,就必需首先研究鋁合金點(diǎn)蝕的形成機(jī)理,至少也應(yīng)對(duì)點(diǎn)蝕的形成有深人了解。這也是研究鋁合金化學(xué)紋理蝕刻的理論基礎(chǔ)。
鋁合金點(diǎn)蝕的形成機(jī)理比較復(fù)雜,普遍認(rèn)為主要是由電化學(xué)因素和表面結(jié)構(gòu)不均勻因素所致。下面對(duì)這兩方面進(jìn)行深人討論。
I.點(diǎn)蝕機(jī)理及影響點(diǎn)蝕的主要因素
點(diǎn)蝕形成的機(jī)理及影響點(diǎn)蝕的因素比較復(fù)雜,不同型號(hào)的合金材料,在不同電解質(zhì)溶液中的表現(xiàn)也不盡相同,在此主要討論對(duì)紋理蝕刻有較大影響的相關(guān)機(jī)理和因素。
(1)點(diǎn)蝕機(jī)理點(diǎn)蝕主要由電解質(zhì)溶液引起的電化學(xué)因素和由鋁合金材料本身特征引起的表面結(jié)構(gòu)不均勻因素所致。
①電化學(xué)因素。當(dāng)鋁合金浸人電解質(zhì)溶液中時(shí),鋁合金表面由于特定活化陰離子(如C1一等)的存在,促進(jìn)了陽極反應(yīng)的發(fā)生;而氧化劑的存在和具有低極化性能的有效陰極面積則促進(jìn)陰極反應(yīng)。此時(shí),只要腐蝕電位達(dá)到或超過某一臨界值(即點(diǎn)蝕電位),就可能擊穿表面膜而導(dǎo)致點(diǎn)蝕的產(chǎn)生。
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若點(diǎn)蝕是由活化陰離子(特別是Cl)吸附在表面膜中的某些缺陷處所引起,一旦達(dá)到點(diǎn)蝕電位,其表面氧化膜最薄弱部分的電場(chǎng)強(qiáng)度將高,抓化物陰離子從而得以穿透薄膜,形成氧化物一氧化物。隨后氧化膜發(fā)生局部溶解立即形成點(diǎn)蝕源。由此可見,點(diǎn)蝕電位反映了表面鈍化膜被擊穿的難易程度。
②表面結(jié)構(gòu)的不均勻因素。金屬材料表面結(jié)構(gòu)的不均勻性使表面膜某些部位較為薄弱,成為容易形成點(diǎn)蝕的中心。這些表面不均勻性包括晶界、夾雜物,位錯(cuò)等表面缺陷。在金屬表面露頭的位錯(cuò)也是產(chǎn)生點(diǎn)蝕的敏感部位。如金屬冷加工可增加位錯(cuò)密度,使點(diǎn)蝕的敏感性增加。金屬膜層的這些敏感部位將首先溶解,露出無鈍化膜層的新鮮金屬。溶液中腐蝕性離子迅速吸附在露金
屬表面,從而形成點(diǎn)蝕源。
(2)影響點(diǎn)蝕的主要因素對(duì)于紋理蝕刻而言,當(dāng)鋁合金材料一定的情況下,影響點(diǎn)蝕的主要因素有以下幾個(gè)方面。
①溶液成分的影響。實(shí)踐表明,在含C1一的電解質(zhì)溶液中最易引起點(diǎn)蝕。其點(diǎn)蝕電位與電解質(zhì)溶液中C1一濃度、pH值及溫度等都有很大關(guān)系。當(dāng)電解質(zhì)溶液中Cl一濃度增加時(shí),點(diǎn)蝕電位向負(fù)方向移動(dòng);而當(dāng)pH值降低及溫度升高時(shí),點(diǎn)蝕電位亦向負(fù)方向移動(dòng)。也就是說以上因素都可增加點(diǎn)蝕發(fā)生的敏感性。