廠家直銷-高純金屬銦靶材-In靶材
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廠家直銷 高純金屬銦靶材 In靶材 顆粒磁控濺射靶材 電子束鍍膜蒸發(fā)料
純度 99.999%
產(chǎn)品介紹
銦是銀白色并略帶淡藍(lán)色的金屬 ,質(zhì)地非常軟,能用指甲刻痕。銦的可塑性強(qiáng),有延展性,可壓成片。金屬銦主要用于制造低熔合金、軸承合金、半導(dǎo)體、電光源等的原料。
產(chǎn)品參數(shù)
中文名 銦 原子量 114.818 熔點(diǎn)156.61℃ 沸點(diǎn)2060℃
理論密度(g / cm3) 7.3 原子序數(shù) 49 顏色/外觀 銀色光澤灰色,金屬色 導(dǎo)熱系數(shù) 82 W / mK
產(chǎn)品規(guī)格 圖片靶材,矩形靶材,圓柱靶材,臺階片靶材,管型靶材,根據(jù)客戶的圖紙定制
產(chǎn)品用途 磁控濺射鍍膜材料等
產(chǎn)品附件 正式報(bào)價(jià)單/購銷合同/裝箱單/材質(zhì)分析檢測單/正規(guī)發(fā) 票
產(chǎn)品包裝 真空包裝/真空中性包裝/特殊包裝外加固包裝
適用儀器 各類型號磁控濺射設(shè)備
廠家優(yōu)勢
廠家直銷
收貨后7日內(nèi)可協(xié)商退換貨
靶材種類齊全
1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,五氧化二鈮Nb2O5,五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3等高純氧化物鍍膜材料。
2.氟化物:氟化釹NbF3,氟化鋇BaF2,氟化鈰CeF3,氟化鎂MgF2,氟化鑭LaF3,氟化釔YF3,氟化鐿YbF3,氟化鉺ErF3等高純氟化物。
3.其它化合物:硫化鋅ZnS,硒化鋅ZnSe,氮化鈦TiN,碳化硅SiC,鈦酸鑭LaTiO3,鈦酸鋇BaTiO3,鈦酸鍶SrTiO3,鈦酸鐠PrTiO3,硫化鎘CdS等真空鍍膜材料。
4.金屬鍍膜材料:高純鋁Al,高純銅Cu,高純鈦Ti,高純硅Si,高純金Au,高純銀Ag,高純銦In,高純鎂Mg,高純鋅Zn,高純鉑Pt,高純鍺Ge,高純鎳Ni,高純金Au,金鍺合金AuGe,金鎳合金AuNi,鎳鉻合金NiCr,鈦鋁合金TiAl,銅銦鎵合金CuInGa,銅銦鎵硒合金CuInGaSe,鋅鋁合金ZnAl,鋁硅合
1.常規(guī)金屬靶材:鎂Mg靶材,錳Mn靶材,鐵Fe靶材,鈷Co靶材,鎳Ni靶材,銅Cu靶材,鋅Zn靶材,鉛Pd靶材,錫Sn靶材,鋁Al靶材。
2.小金屬靶材靶材:銦In靶材,鍺Ge靶材,鎵Ga靶材,銻Sb靶材,鉍Bi靶材,鎘Cd靶材
3.難熔金屬靶材:鈦靶材Ti,鋯靶材Zr,鉿靶材Hf,釩靶材V,鈮靶材Nb,鉭靶材Ta,鉻靶材Cr,鉬靶材Mo,鎢靶材W,錸靶材Re.
4.貴金屬靶材:金靶材Au,銀靶材Ag,鈀靶材Pd,鉑靶材Pt,銥靶材Ir,釕靶材Ru,銠靶材Rh,鋨靶材Os.
5.半金屬靶材:碳靶材C,硼靶材B,碲靶材Te,硒靶材Se.
6.稀土金屬靶材:釓靶材Gd、釤靶材Sm、鏑靶材Dy、鈰靶材Ce、釔靶材Y、鑭靶材La、鐿靶材Yb、鉺靶材Er、鋱靶材Tb、鈥靶材Ho、銩靶材Tm、釹靶材Nd、鐠靶材Pr、镥靶材Lu、銪靶材Eu、鈧靶材Sc及稀土摻雜靶材.