再次執(zhí)行POP后，可以看到面3的網(wǎng)格寬度如同預(yù)期是30mm，將面9上的光束放大后可以看到中心遮擋區(qū)域的解析度有了很大的提升，像素造成的鋸齒邊緣缺陷也有了明顯的改善

在做了前面兩個(gè)改動(dòng)之后，可以看出直到面13（第二篇透鏡的后表面）為止，取樣率都是沒(méi)問(wèn)題的。但是在像表面上的取樣率還是比較差。

由于光束從第二個(gè)透鏡后表面往后經(jīng)過(guò)很長(zhǎng)一段光程聚焦成一個(gè)點(diǎn)，因此在像面上的解析度會(huì)跟第二個(gè)透鏡的后表面上的網(wǎng)格寬度成反比，則增加第二個(gè)透鏡后表面上的網(wǎng)格寬度就可以解決像面上的取樣問(wèn)題。

我們可以設(shè)置更多的分析光線(xiàn)以在探測(cè)器中得到更符合實(shí)際的結(jié)果。將分析光線(xiàn)設(shè)置為一百萬(wàn)根， 此時(shí)我們可以更清晰的看到光源模型的空間分布和角分布數(shù)據(jù)：

可以看到所計(jì)算的流明強(qiáng)度分布和供應(yīng)商提供的數(shù)據(jù)基本相符。但是供應(yīng)商并沒(méi)有提供LED的強(qiáng)度數(shù)據(jù)（以及LED的空間結(jié)構(gòu)）， 因此OpticStudio假設(shè)光源在3mm的半徑內(nèi)是均勻分布的。在沒(méi)有更多可用數(shù)據(jù)的情況下， 這些就是我們所能做的所有設(shè)置了。如果想進(jìn)一步提高模擬的精度，我們需要空間分布數(shù)據(jù)和角分布數(shù)據(jù)，這分別對(duì)應(yīng)了光源強(qiáng)度和光源照度。

通過(guò)與原始RSMX文件中的測(cè)量圖像對(duì)比可以發(fā)現(xiàn)，兩者具有很高的一致性。使用Opsira軟件Opsira  公司在他們的Luca Raymaker軟件中提供了相似的功能，它可以根據(jù)角度計(jì)測(cè)量的數(shù)據(jù)生成光束。 光線(xiàn)根據(jù)以下設(shè)置生成：

OpticStudio會(huì)讀取所生成的二進(jìn)制 .dat文件并加載至文件光源物體，然后采用與前文所述輻射光源相同的方法進(jìn)行光線(xiàn)追跡。建立復(fù)雜的幾何模型我們討論的最后一個(gè)技巧是建立包含復(fù)雜幾何體的光源模型。這是光源的“迷你模型”， 并且使用OpticStudio中提供的幾何體表示光源的內(nèi)部結(jié)構(gòu)。例如，我們可以打開(kāi)Zemax根目錄 /Samples/non-sequential/sources/led_model.zmx：