手機(jī)玻璃鏡片清洗劑的特點(diǎn)及應(yīng)用

一，手機(jī)玻璃清洗劑特點(diǎn)：

 手機(jī)玻璃清洗劑是一種表面活性助劑物，和光學(xué)清洗劑性質(zhì)基一樣，把產(chǎn)品放入超聲波清洗液中，通過超聲波使產(chǎn)品表面和清洗劑互相摩擦，把吸附在光學(xué)產(chǎn)品表面的物質(zhì)清洗掉，專業(yè)的手機(jī)玻璃清洗劑，表面活少于更強(qiáng)，清洗力度更大，滲透力度更強(qiáng)的特點(diǎn)。能輕松清除鏡頭后的研磨劑和研磨玻璃粉、落塵、氧化鈰、油性污垢，及微顆粒等，光學(xué)鏡片的微粒和油性污垢等。清洗手機(jī)蓋板不發(fā)蒙，對蓋板玻璃水印水痕、吸盤印有顯著的清洗效果，同時也能避免由水的硬度成分所發(fā)生的水滴斑等。手機(jī)蓋板因?yàn)槊娣e比較大，超聲波超聲時中間的部位振動不到，對清洗劑的表面活性要求強(qiáng)，所以手機(jī)玻璃清洗劑都是堿性清洗，當(dāng)清洗劑溫度升高時，堿性清洗劑表面活性更加強(qiáng)。

因 為突沿容易撕裂下來﹐在導(dǎo)線的兩點(diǎn)之間形成電的拆接。 影響側(cè)蝕的因素有很多﹐下面將概述幾點(diǎn)﹕ 蝕刻方式﹕ 浸泡和鼓泡式蝕刻會造成較大的側(cè)蝕﹐潑濺和噴淋式蝕刻的側(cè)蝕較小﹐尤以噴淋蝕 刻的效果很好。 蝕刻液的種類﹕ 不同的蝕刻液, 其化學(xué)組分不相同﹐蝕刻速率就不一樣﹐蝕刻系數(shù)也不一樣。 例如﹕酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數(shù)通常為 3﹐而堿性氯化銅蝕刻系數(shù)可達(dá)到 4。 蝕刻速率﹕ 蝕刻速率慢會造成嚴(yán)重側(cè)蝕。 提高蝕刻質(zhì)量與加快蝕刻速率有很大的關(guān)系, 蝕刻速 度越快, 基板在蝕刻中停留的時間越短﹐側(cè)蝕量將越小﹐蝕刻出的圖形會更清晰整 齊。

一、二槽酸液蝕刻 Glass 材料時設(shè)置的溫度、速度、需根據(jù)酸液的濃度及材料導(dǎo)電層附著力的強(qiáng)弱而調(diào)節(jié),以能完 全蝕刻、不短路為原則并配合堿段的參數(shù)； b.同時生產(chǎn)前需做首件檢測原材料方阻,方阻需在要求范圍之內(nèi)才可正常生產(chǎn)； c.兩槽酸液流量要適中范圍； d.如出現(xiàn)刻不斷等其它的現(xiàn)象時請優(yōu)先調(diào)整各階段的速度以 1.5 為基準(zhǔn)往上調(diào)或往下調(diào)； e.酸槽的速度必須小于不等于堿槽的速度。 （2）堿洗、脫膜(Glass)