不銹鋼標(biāo)牌蝕刻

人造木材由于具有色彩鮮艷、圖案清晰和價(jià)格低廉等優(yōu)點(diǎn)，而廣泛應(yīng)用于建筑裝飾和家具等行業(yè)，制約人造木材生產(chǎn)的關(guān)鍵是模具板。利用蝕刻方法能夠在不銹鋼模具上雕刻出各種花紋圖案，提高所加工制件的裝飾和美觀性能。在技術(shù)分為機(jī)械、化學(xué)和電化學(xué)方法等[1～4]，其中化學(xué)蝕刻具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、精度高和生產(chǎn)成本低等優(yōu)點(diǎn)，適合于批量生產(chǎn)，蝕刻深度為20～200μm?；瘜W(xué)蝕刻涉及材料科學(xué)、照相制版技術(shù)和金屬腐蝕與防護(hù)等。圖紋膜的致密性、耐蝕性和耐熱性尤為重要。由于有雄厚的項(xiàng)目支持﹐因此研究人員有能力從長(zhǎng)遠(yuǎn)意議上對(duì)蝕刻裝置的設(shè)計(jì)思想進(jìn)行改變﹐同時(shí)研究這些改變所產(chǎn)生的效果。不銹鋼拋光技術(shù)分為機(jī)械、化學(xué)和電化學(xué)拋光，其中化學(xué)拋光具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、投資少、生產(chǎn)成本低和適應(yīng)性強(qiáng)等特點(diǎn)[5，6]，化學(xué)拋光實(shí)際是不銹鋼溶解和鈍化兩種過程相互競(jìng)爭(zhēng)的結(jié)果，拋光質(zhì)量不僅與不銹鋼材質(zhì)、加工方法、制品大小和結(jié)構(gòu)以及表面狀態(tài)等有關(guān)，而且還與溶液配方和拋光工藝參數(shù)有關(guān)。化學(xué)拋光溶液分為王水型、硫酸型、磷酸型和醋酸-雙氧水型等[7]，為了改善和提高拋光質(zhì)量而加入一定量添加劑，添加劑不銹鋼化學(xué)拋光分為浸泡、噴淋和涂膏等，浸泡又分為高溫、中溫和室溫拋光[9]。   目前，我國(guó)人造木材行業(yè)應(yīng)用的模具板主要是從歐洲進(jìn)口，不僅價(jià)格昂貴，而且修復(fù)困難，因此不銹鋼模具板的國(guó)產(chǎn)化勢(shì)在必行。本文針對(duì)國(guó)產(chǎn)不銹鋼板材，研究了化學(xué)蝕刻、化學(xué)拋光和電鍍鉻工藝參數(shù)不銹鋼蝕刻標(biāo)牌 不銹鋼化學(xué)蝕刻配方和工藝參數(shù)為:fecl3660～850g/l、hcl(36%)8～20ml/l，添加劑

10～20g/l，溫度45～50℃。在此條件下，蝕刻速度為10～20μm/h，蝕刻時(shí)間根據(jù)圖紋具體深度而定。      2) 化學(xué)拋光配方和工藝參數(shù)為:硝酸(65%)15～40ml/l，鹽酸(36.5%)60～100ml/l，磷酸(85%)20～45ml/l，復(fù)合光亮劑1～5g/l，緩蝕劑0.2～2g/l，增稠劑2～20g/l，拋光溫度為25～40℃，拋光時(shí)間為1～5h。在此條件下，可以獲得光亮如鏡的拋光面。（一）表面保護(hù)1、涂耐腐蝕的感光油墨首先選擇200目的絲網(wǎng)網(wǎng)版。3) 電鍍鉻工藝:鉻酐230～270g/l，硫酸2.3～2.7g/l，三價(jià)鉻<5g/l，陰極電流密度50～60a/dm2，溫度55～60℃。鉻酐在電鍍鉻溶液中不僅起到穩(wěn)定鍍液的作用，而且對(duì)ph也有一定的緩沖作用，從而使得鍍層厚度可持續(xù)增加。  

這就要選擇容易 再生和補(bǔ)償, 而蝕刻速率又容易控制的蝕刻液, 并 選用能提供恒定的操作條件和能自動(dòng)控 制各種溶液參數(shù)的工藝和設(shè)備, 通過控制溶銅量、 PH 值、 溶液的濃度、 溫度及溶液流量 的均勻性（噴淋系統(tǒng)或噴嘴, 以至噴嘴的擺動(dòng)）等來實(shí)現(xiàn)蝕刻速率的一致性。 3. 提高基板表面的蝕刻速率的均勻性 基板的上下兩面以及板面上各部位的蝕刻的均勻性, 皆決定于板表面受到蝕刻劑流 量的均勻性所影響。 在蝕刻的過程中﹐上下板面的蝕刻速率往往并不一致。11、填漆：金屬蝕刻標(biāo)牌的填漆有好幾種，對(duì)于此類標(biāo)牌推薦一下兩種：①噴漆：需要空壓機(jī)和噴槍——適用于標(biāo)牌尺寸較大、字體較大的標(biāo)牌。 一般來說﹐下板面的蝕刻速 率會(huì)高于上板面。

氯化銨含量的影響 通過蝕刻再生的化學(xué)反應(yīng)可以看出﹕﹝Cu(NH3)2﹞1+的再生需要有過量的 NH3 和 NH4CL 存在。 如果溶液中缺乏 NH4CL, 而使大量的﹝Cu(NH3)2﹞1+得不到再生﹐蝕刻速率就會(huì)降低 ﹐以至失去蝕刻能力。 所以﹐氯化銨的含量對(duì)蝕刻速率影響很大。 隨著蝕刻的進(jìn)行﹐要不 斷補(bǔ)加氯化銨。在技術(shù)分為機(jī)械、化學(xué)和電化學(xué)方法等[1～4]，其中化學(xué)蝕刻具有工藝簡(jiǎn)單、操作方便、精度高和生產(chǎn)成本低等優(yōu)點(diǎn)，適合于批量生產(chǎn)，蝕刻深度為20～200μm。 但是﹐溶液中 CL 含量過高會(huì)引起抗蝕層被浸蝕。 一般蝕刻液中 NH4CL 含 量應(yīng)在 150g/L 左右。