MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI 

E-CELL的EDI 采用模塊化技術(shù)，通過不同數(shù)量的模塊搭配，可以適應(yīng)各種水處理要求。其為發(fā)電、半導(dǎo)體、微電子、化工以及制藥等行業(yè)的高純水的生產(chǎn)提供有力保障。

EDI 利用傳統(tǒng)的離子交換樹脂將水中的污染離子去除，其ZD的優(yōu)點(diǎn)在于： EDI 技術(shù)采用直流電迫使污染離子持續(xù)的從進(jìn)水中遷移出來，并穿過離子床和離子交換膜進(jìn)入濃水室。同時(shí)直流電能夠?qū)⑺肿与婋x成氫離子和氫氧根離子，持續(xù)的對樹脂進(jìn)行再生。因此 EDI 可以連續(xù)、可預(yù)知的生產(chǎn)出等同甚至優(yōu)于混床出水的高純水

一、技術(shù)參數(shù)

二、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI應(yīng)用市場

1、半導(dǎo)體、電子、?陽能

2、化工、鋼鐵、冶金

3、發(fā)電（鍋爐給水）

4、 制藥（高溫制藥用模塊）

5、 實(shí)驗(yàn)室（Mini 模塊）

三、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI主要特點(diǎn)：

SUEZ EDI 的特點(diǎn)

1、濃水室添加樹脂，電耗低

2、逆流運(yùn)行，降低結(jié)垢傾向

3、出水水質(zhì)高，長期運(yùn)行穩(wěn)定

4、無需向濃水室加鹽和濃水 循環(huán)，簡化了系統(tǒng)設(shè)計(jì)

四、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI的儲(chǔ)存條件：

MK-3PharmHT模塊應(yīng)在室內(nèi)儲(chǔ)存，避免陽光直射，儲(chǔ)存溫度在33oF（1℃）至109oF（43℃）之間。

MK-3PharmHT模塊里面的膜必須保持濕潤。如果儲(chǔ)存三天以上，模塊必須裝滿水。為了能保存更長時(shí)間比如說一年，必須排出E-Cell-3X模塊里的水，并將管口蓋上，以保持濕潤。任何時(shí)候儲(chǔ)存模塊時(shí)， 必須使其后面的管口向上。

四、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI的停機(jī)步驟：

MK-3PharmHT模塊短期停機(jī) 

如果擬將系統(tǒng)停機(jī)一段時(shí)間，且管道允許系統(tǒng)排水，則必須關(guān)閉某些手動(dòng)閥。它們包括如下所述：

1. 關(guān)閉淡水進(jìn)口閥。

2. 關(guān)閉淡水出口閥。

3. 關(guān)閉淡水產(chǎn)水沖洗閥。

4. 關(guān)閉濃水排放閥。

5. 關(guān)閉極水出口閥。

MK-3PharmHT模塊長期停機(jī)

如果MK-3PharmHT模塊擬停機(jī)三天以上，它們必須為長期停機(jī)作準(zhǔn)備并存儲(chǔ)模塊，以阻止生物群的生長。

注：為長期停機(jī)作準(zhǔn)備的所有步驟期間，MK-3PharmHT模塊必須斷電！

注意：

1. 必須關(guān)閉MK-3PharmHT模塊的電源。

2. 允許MK-3PharmHT模塊排干所有積水。

3. 關(guān)閉或蓋上所有MK-3PharmHT模塊的進(jìn)口和出口，這樣它們就能保持濕潤。

4. 長期停機(jī)后，再次運(yùn)行，MK-3PharmHT模塊也許會(huì)要求再生。再生大約需要8-16小時(shí)。

 五、MK-3   EDI 相較于混床

1、工藝先進(jìn)

2、無需化學(xué)品再生

3、運(yùn)行成本大幅低于混床

4、連續(xù)運(yùn)行，操作簡單

5、減少設(shè)備占地空間