重慶沃藍(lán)水處理LRO-CQ-10T超純水制水設(shè)備價(jià)格
超純水制水設(shè)備的主要特點(diǎn)：

1.產(chǎn)水水質(zhì)高而具有較佳的穩(wěn)定度高。

2.連續(xù)不間斷制水，不因再生而停機(jī)。

3.模塊化生產(chǎn)，并可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制。

4.不須酸堿再生，無(wú)污水排放。

5.無(wú)酸堿再生設(shè)備和化學(xué)藥品儲(chǔ)運(yùn)。

6.設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，占地面積小。

7.運(yùn)行費(fèi)用及維修成本低。

8.運(yùn)行操作簡(jiǎn)單，勞動(dòng)強(qiáng)度低。

超純水制水設(shè)備基本參數(shù)
 1、給水：RO純水，一般水的電導(dǎo)率為4-30us/cm。
 2、PH：5.0-8.0(在此PH條件下，水硬度不能太高)
 3、溫度：5-35℃
 4、進(jìn)水壓力：較大為4kg/cm2(60psi)，較小為1.5kg/cm2(25psi)。

超純水制水設(shè)備應(yīng)用范圍：

電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗，電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水，集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片

半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路，LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

高品質(zhì)顯像管、螢光粉生產(chǎn)，半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗

超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料，實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間

汽車(chē)、家電表面拋光處理，光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品

超純水制水設(shè)備進(jìn)水要求：
反滲透RO產(chǎn)水，電導(dǎo)率1-20μs/cm，較大允許電導(dǎo)率≤30μs/cm（NaCl）。

pH值： 7.5—9

溫度： 15℃--35℃

進(jìn)水壓力（DIN）：0.15—0.4MPa

濃水進(jìn)水壓力（C ） 0 10 0 3MP IN）： 0.10—0.3MPa

產(chǎn)水壓力(DOUT)：0.05—0.25MPa

濃水出水壓力(COUT)： 0.02—0.2MPa

進(jìn)水硬度：＜1.0ppm(以CaCO 計(jì)）(推薦0 5ppm以下）

進(jìn)水有機(jī)物：TOC＜0.5ppm

進(jìn)水硅：SiO2＜0.5ppm

進(jìn)水總CO2：＜3ppm

進(jìn)水顆粒度：＜1μm