氟化氪光刻機(jī)廢水除氟的核心技術(shù)?在于利用特定的處理工藝去除廢水中的氟離子。這一技術(shù)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，特別是在光刻機(jī)的清洗過(guò)程中產(chǎn)生的廢水中。通過(guò)有效的除氟處理，可以減少對(duì)環(huán)境的污染，同時(shí)符合環(huán)保要求?。

?氟化氪光刻機(jī)的工作原理?基于深紫外(DUV)光刻技術(shù)，使用248納米的光源波長(zhǎng)，分辨率小于等于110納米，套刻精度精確至25納米以內(nèi)。這種技術(shù)水平的提升反映了我國(guó)在精密制造與光學(xué)工程領(lǐng)域的深厚積累?34。

?除氟技術(shù)的具體應(yīng)用?包括使用特定的化學(xué)或物理方法，如沉淀法、離子交換、電滲析等，來(lái)去除廢水中的氟離子。這些方法可以有效降低廢水中的氟含量，達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)。此外，結(jié)合多重曝光技術(shù)，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的技術(shù)已經(jīng)成熟，從DUV光刻機(jī)到EUV光刻機(jī)，標(biāo)志著我國(guó)在高端光刻機(jī)領(lǐng)域取得了重大技術(shù)突破?12。

?環(huán)保意義及產(chǎn)業(yè)影響?方面，有效的廢水處理不僅符合環(huán)保要求，減少對(duì)環(huán)境的污染，同時(shí)也推動(dòng)了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的可持續(xù)發(fā)展。隨著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)技術(shù)的不斷成熟與應(yīng)用拓展，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在全球科技舞臺(tái)上的地位將進(jìn)一步提升?。

Tulsimer? CH-87 UP 是在 Tulsimer? CH-87 的基礎(chǔ)上進(jìn)行混合升級(jí)的一款專用除氟

樹(shù) 脂。能更好的適應(yīng)高鹽、高氟環(huán)境下的選擇性除氟。且針對(duì)氨基磷酸型樹(shù)脂長(zhǎng)時(shí)間

在高 鈣鎂環(huán)境下工作可能板結(jié)的問(wèn)題，以及出水可能渾濁的問(wèn)題進(jìn)行了有效升級(jí)。

Tulsimer? CH-87 UP 的去除氟離子的能力可以達(dá)到 1ppm 以下的水平。它可以在寬泛的

PH 條件下工作，有極高的工作效率，并且很容易用氯化鋁進(jìn)行再生?？梢詮V泛的應(yīng)用于

光伏行業(yè)，氟化工行業(yè)等。

優(yōu)勢(shì)

1、處理精度，處理后廢水氟化物含量可達(dá)到1ppm以下，穩(wěn)定達(dá)標(biāo)《地表水環(huán)境質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)》GB3838-2002，表三標(biāo)準(zhǔn)；2、吸附量大，對(duì)于氟化物實(shí)際操作交換量能夠達(dá)到6-8g/l；3、選擇性除氟，樹(shù)脂可以在鹽環(huán)境運(yùn)行，并且只吸附氟，不受硫根等陰離子的影響；4、專門開(kāi)發(fā)用于污水除氟的特種離子交換樹(shù)脂，解決了活性氧化鋁、羥基磷灰石等吸附材料用于污水除氟時(shí)，使用過(guò)程中出現(xiàn)的吸附量小、再生時(shí)間長(zhǎng)（至少8小時(shí)），再生后交換量衰減嚴(yán)重、運(yùn)行成本、濾料體量大、占地面積大等難題；5、能對(duì)低濃度含氟廢水進(jìn)行深度處理，濃縮比，解決低濃度廢水處理難題；6、模塊組件形式，自動(dòng)化程度，操作簡(jiǎn)單。