PlasmMS等離子體的形成可以用弗林明左手定則(Fleming’s Rule)來(lái)解釋?zhuān)摱山忉屃穗娏?、RF頻率、與能量之間的關(guān)系。
輔助氣沿著感應(yīng)線(xiàn)圈的軸向通過(guò)石英炬管。RF發(fā)生器給水冷式感應(yīng)線(xiàn)圈供能，在炬焰內(nèi) 部產(chǎn)生射頻磁場(chǎng)(radio-frequency magnetic field)，該磁場(chǎng)并不直接偶聯(lián)惰性氣體，但通 過(guò)將特斯拉線(xiàn)圈的放電傳給氬氣，可以形成一些Ar+。這些起始離子可以將RF磁場(chǎng)與氬氣 偶聯(lián)，更多的Ar+不斷產(chǎn)生，因而可以在矩管內(nèi)維持穩(wěn)定的等離子體。
等離子體剛形成時(shí)，并沒(méi)有通霧化氣，此時(shí)等離子體是螺旋管形狀(toroidal)的，隨著霧化 氣流速的增加，樣品氣流會(huì)穿通等離子體的通道(central channel)，樣品在中心通道 處被電離。
氬氣等離子體由自由Ar+離子和電子組成，由RF射頻振蕩供能，振蕩頻率是27Mhz。相比 離子而言，電子的移動(dòng)性更高，會(huì)跟隨RF線(xiàn)圈的方向而移動(dòng)。因此，在等離子體內(nèi)部出 現(xiàn)了電荷分離，因此某種程度上來(lái)說(shuō)等離子體可以像二極管(diode)那樣，一小部分的RF 會(huì)發(fā)生反射回流(rectified)。產(chǎn)生的實(shí)際效果就是等離子體相對(duì)大地(earth)而言，會(huì)帶些 許正電(或者負(fù)電)，因此離子會(huì)產(chǎn)生額外的加應(yīng)。另外一個(gè)效應(yīng)就是，在截取錐與采 樣錐之間的低壓區(qū)間，會(huì)產(chǎn)生小小的電暈放電(corona discharge)現(xiàn)象，而該區(qū)域會(huì)發(fā)生 一些重新結(jié)合的反應(yīng)(re-combination reactions)。利用RF發(fā)生器內(nèi)部的虛擬接地，可以有 效減少等離子體的RF反射、接口處放電、以及導(dǎo)致的重新結(jié)合等。

PlasmaMS 300樣品引入主要包括3個(gè)步驟:
1. 樣品傳送delivery –使用蠕動(dòng)泵將樣品傳送到霧化器處，霧化器處引入霧化氣(霧化器也 稱(chēng)載氣，為高速氬氣氣流)，霧化氣撞擊液體將其吹散成氣溶膠。蠕動(dòng)泵和霧化器保證了 液體樣品的連續(xù)進(jìn)樣。
2. 液體樣品轉(zhuǎn)化為氣溶膠–氣溶膠是霧化器產(chǎn)生的，使用廣泛的霧化器是同心霧化器。 隨后，氣溶膠被霧室混勻并過(guò)濾。霧室的體積比較小，因此可以進(jìn)行快速?zèng)_洗，降低記憶 效應(yīng)?？梢允褂檬⒉馁|(zhì)的霧室或者惰性材料(polypropylene，聚丙烯)的霧室。
3. 氣溶膠引入到等離子體 – 隨著霧化氣的推動(dòng)力作用，樣品氣溶膠可以從霧室被傳送到 炬管處。霧化器和霧室是直接連接到ICP炬管上的，小程度縮短了樣品傳輸?shù)木嚯x。
一個(gè)四通道的微型蠕動(dòng)泵(peristaltic mini-pump)將液體樣品傳送到霧化器處，在霧化器處 引入高速氬氣氣流(霧化氣，也稱(chēng)載氣)，將液體樣品轉(zhuǎn)化成氣溶膠。對(duì)于每個(gè)裝到儀器上 的霧化器來(lái)說(shuō)，可以手動(dòng)優(yōu)化一下蠕動(dòng)泵轉(zhuǎn)速。

采用PlasmaMS 300進(jìn)行分析時(shí)樣品注意事項(xiàng)：
很多樣品的初始狀態(tài)并不適合直接上機(jī)測(cè)試，例如:
固體樣品 渾濁樣品(Heterogeneous)
待測(cè)元素含量過(guò)高 (PLASMAMS 300的動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍大約是 100ppm)
高基體 (我們建議PLASMAMS 300上機(jī)樣品TDS <0.2%w/v，TDS為總固態(tài)可溶物含量
Total Dissolved Solids)
由于以上原因，我們需要先將樣品轉(zhuǎn)換成液體形態(tài)。一般來(lái)說(shuō)，HNO3是比較理想的選擇， 但有時(shí)候由于樣品基體的原因，無(wú)法使用HNO3---例如有機(jī)樣品和鋼鐵樣品等。如果可以 使用HNO3，2% HNO3是比較適合PLASMAMS 300分析上機(jī)的。因?yàn)榈腍NO3加入一般不會(huì)增加 多原子干擾，同時(shí)，高純度HNO3比較容易買(mǎi)到。
其他類(lèi)型的酸試劑都會(huì)帶來(lái)額外的干擾。例如：添加HCl來(lái)溶解樣品，會(huì)產(chǎn)生ClO & ArCl， 因此會(huì)干擾V & As的測(cè)定。磷酸和硫酸的添加會(huì)干擾Ti & Zn的測(cè)定。
我們建議 PLASMAMS 300 的樣品溶解并稀釋到以下范圍：
< 0.2% w/v TDS(Total Dissolved Solids)

質(zhì)譜干擾主要分為以下兩類(lèi)：
1.多原子干擾(Polyatomic) – 與目標(biāo)同位素原子質(zhì)量重合的多原子離子，所帶來(lái)的干擾
解決辦法：1、參數(shù)調(diào)諧：載氣、采樣深度等
2、使用碰撞反應(yīng)池技術(shù)
2. 同量異位素干擾(Isobaric) –與目標(biāo)同位素原子具有相同質(zhì)量數(shù)的原子帶來(lái)的干擾(目標(biāo) 原子與干擾原子的質(zhì)子數(shù)和中子數(shù)都不同，但(質(zhì)子數(shù)+中子數(shù))相同)；也包括質(zhì)荷比相等 的不同元素離子形成的干擾。
解決辦法：選擇合適的同位素