ccd光電直讀光譜儀 多通道光譜儀
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ccd光電直讀光譜儀-多通道光譜儀

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光學(xué)系統(tǒng) 帕邢 - 龍格架發(fā)
光柵焦距 750mm
刻線 2400 條 /mm
譜線范圍 170-500nm
一級色散率 0.55nm/mm
二級色散率 0.275nm/mm
分辨率 優(yōu)于 0.01nm
商品介紹
光譜儀在分析的過程中,電火花燃燒樣品表面會產(chǎn)生金屬粉塵,大部分的金屬粉塵都會隨著氬氣吹掃排到過濾罐中,然而也會有少部分金屬粉塵會停留在激發(fā)室里,時(shí)間長了會堆積污染激發(fā)室和光學(xué)透鏡,引起測量數(shù)據(jù)波動(dòng),誤差變大,所以需要定期的清理來改善激發(fā)室環(huán)境,改善測量數(shù)據(jù)。
光譜儀在使用的過程中,會有一部分金屬粉塵、金屬屑、灰塵掉落到儀器內(nèi)部電路模塊上,如果不及時(shí)清理可能會導(dǎo)致電路模塊短路,一些核心的電路板損壞維修費(fèi)用會很高,所以需要及時(shí)的清理儀器內(nèi)部灰塵,保證電路的正常運(yùn)行。
儀器使用年限長了后,儀器內(nèi)部一些器件會發(fā)生老化,這部分器件需要及時(shí)的發(fā)現(xiàn)更換,否則會引起嚴(yán)重的光譜儀故障。
化驗(yàn)員在使用過程中可能會存在一些不規(guī)范的操作,這些操作可能會導(dǎo)致測試誤差,嚴(yán)重的誤操作也可能會導(dǎo)致光譜儀故障,的方式是能和專業(yè)的光譜工程師溝通交流,讓工程師發(fā)現(xiàn)化驗(yàn)員的不規(guī)范操作,及時(shí)糾正,確保儀器的正常使用。
ccd光電直讀光譜儀,直讀光譜儀中國總廠家
鋼研納克Spark 8000 全譜火花直讀光譜儀采用高分辨率線陣CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)作為檢測器,CMOS 檢測儀器集成性高、讀取速度更快、功耗低、長期穩(wěn)定性更高;每個(gè)像素自帶放大器,可對特殊元素進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)整,增加儀器的準(zhǔn)確度,降低分析限,實(shí)現(xiàn)全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統(tǒng),儀器性能更穩(wěn)定,服務(wù)期限更長久。海量的譜線使分析不再受限,曲線分段跳轉(zhuǎn)同一元素不同譜線間實(shí)現(xiàn)無縫銜接,拓展分析范圍第三元素干擾校正使元素分析更加準(zhǔn)確,可以在用戶現(xiàn)場任意增加材料基體和分析元素而無需增加硬件,維護(hù)保養(yǎng)方便。能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料;網(wǎng)口采集傳輸,速度快,通用性更強(qiáng)。
ccd光電直讀光譜儀,直讀光譜儀中國總廠家
SparkCCD 6000 全 譜 火 花 直 讀 光 譜 儀 技 術(shù) 參 數(shù)
SparkCCD 6000全譜火花直讀光譜儀采用高分辨率線陣CCD(Charge-coupled Device)作為檢測器,實(shí)現(xiàn)全譜掃描。采用智能控制光室充氣系統(tǒng),儀器性能更穩(wěn)定,服務(wù)期限更長久。海量的譜線使分析不再受限,曲線分段跳轉(zhuǎn),同一元素不同譜線間實(shí)現(xiàn)無縫銜接,拓展分析范圍第三元素干擾校正使元素分析更加準(zhǔn)確,可以在用戶現(xiàn)場任意增加分析基體和分析元素而無需增加硬件,維護(hù)保養(yǎng)方便。能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料;網(wǎng)口采集傳輸,速度快,通用性更強(qiáng)。
應(yīng)用領(lǐng)域
Spark 6000 可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè),在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用。
適用基體
可用于 Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀技術(shù)優(yōu)勢
?帕邢 - 龍格架法
?光柵焦距 500mm
?高發(fā)光全息光柵,刻線為 2700 條 /mm
?譜線范圍:130-640nm
?色散率: 一級色散率:0.74nm/mm;二級色散率:0.37nm/mm
?分辨率:優(yōu)于 0.01nm
?不限檢測通道
?檢測器由多塊 CCD 組成
?高分辨率 CCD 檢測器
?單片 CCD 3648 個(gè)像素
?單像素尺寸僅為 8μm
?分析樣品重可達(dá) 50kg
?安全防護(hù)設(shè)備阻止不安全激發(fā)
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺,采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路,有效降 低氬氣的消耗量
?一體式透鏡隔離閥,易于更換,且可以避免由日常維護(hù)而引起的強(qiáng)度下降
?放電室設(shè)計(jì)獨(dú)特,保證放電在條件下進(jìn)行
?Windows 環(huán)境下的系統(tǒng)監(jiān)控軟件,控制并顯示光室真空度,顯示火花臺、光室溫度。
?操作簡單快捷,便于維修及調(diào)試
?放電參數(shù)由密碼保護(hù)
?光源頻率能量等參數(shù)連續(xù)可調(diào)
?高能預(yù)火花技術(shù),達(dá) 1000Hz
?網(wǎng)口數(shù)據(jù)采集方式,數(shù)據(jù)傳輸穩(wěn)定,對電腦的要求低
?多線程的數(shù)據(jù)采集方式,提高軟件的穩(wěn)定性,數(shù)據(jù)的可靠性
?采用全新的鑄造光室,熱膨脹系數(shù)極低,儀器的穩(wěn)定性高
?真空由真空泵和真空控制設(shè)備控制
?全新的真空泵隔離閥,穩(wěn)定可靠
?真空光學(xué)系統(tǒng),免氬氣沖洗
?氬氣消耗量低,僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3,用戶日常使用成本低
?包括不同基體不同曲線的計(jì)算
?全中文分析軟件,方便用戶操作
?自主開發(fā)的爐料自動(dòng)配比軟件,根據(jù)測試結(jié)果自動(dòng)生成爐料配比方案
?多種通訊方式滿足不同用戶的需要,可將數(shù)據(jù)傳輸?shù)竭h(yuǎn)程終端或打印機(jī),進(jìn) 行在線分析、遠(yuǎn)程監(jiān)控、診斷與維修。
Spark 6000 全譜火花直讀光譜儀儀器特點(diǎn)
?采用多個(gè) CCD 對可用范圍內(nèi)的光譜譜線進(jìn)行全譜掃描
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料
?分析應(yīng)用覆蓋面廣泛,與傳統(tǒng)儀器相比,不受通道及基體限制
?單板式透鏡架,擦拭時(shí)大大降低對光室的污染
?網(wǎng)口 采集,通用性更強(qiáng)
?.真空泵隔離閥,提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性
?銅火花臺底座,提高散熱性及堅(jiān)固性能
?氬氣消耗量低,僅為充氣型 CCD 光譜儀的 1/2—1/3
ccd光電直讀光譜儀,直讀光譜儀中國總廠家
干擾效應(yīng)。 干擾效應(yīng)也稱基體效應(yīng),又稱共存元素、第三元素或伴隨物效應(yīng),指的是在樣品中除了分析物外所有其他成分的影響,在光譜分析中能引起譜線的強(qiáng)度變化,導(dǎo)致分析結(jié)果產(chǎn)生一些誤差,這種干擾效應(yīng)是光譜分析中需要高度重視的一個(gè)問題。
分析試樣和標(biāo)樣影響。 在實(shí)際工作中,分析試樣和標(biāo)樣的冶煉過程和物理狀態(tài)存在一定的差異,所以導(dǎo)致校準(zhǔn)曲線經(jīng)常出現(xiàn)變化,一般情況下標(biāo)樣大多處于鍛造和軋制狀態(tài),分析樣品大多處于澆鑄狀態(tài),為有效防止試樣的冶金狀態(tài)變化影響檢測分析的結(jié)果,經(jīng)常使用的控制試樣要保證與分析試樣的冶金過程和物理狀態(tài)保持一致,對試樣的分析結(jié)果進(jìn)行精確的控制。
取樣方法影響。 取樣方法和對樣品的處理是光譜分析中影響分析精度和準(zhǔn)確度的重要而關(guān)鍵的因素。爐前分析時(shí)要對爐中鑄態(tài)的鋼樣采取快速紅切的方式進(jìn)行,如果檢測的樣品存在裂紋、雜質(zhì)和氣孔等問題,要重新進(jìn)行取樣檢測。對于低碳鋼材料要將其置入流水中進(jìn)行驟降溫處理,確保樣品組織結(jié)構(gòu)形成馬氏體和奧氏體,從而有效提升碳的分析結(jié)果的準(zhǔn)確性。但要引起注意的是,對于高碳樣品進(jìn)行切割后,不能采取驟降溫的方式進(jìn)行處理,防止因?yàn)轶E降溫引發(fā)裂縫發(fā)生。另外,對于鑄鐵和球墨鑄鐵的檢測和分析,要確保所檢測的樣品進(jìn)行白口化,并確保取樣的溫度、脫模時(shí)間、冷卻速度標(biāo)準(zhǔn)和統(tǒng)一。另外不同材料的檢測分析,要選擇適合的研磨工具,通常使用氧化鋁砂輪片進(jìn)行打磨,要注意打磨的顆粒處于中等狀態(tài),不能太粗或太細(xì)。需要強(qiáng)調(diào)的是,試樣樣品的表面要打磨掉0.5至1.5毫米,除去樣品表面的氧化層,防止檢測結(jié)果的不準(zhǔn)確,氧化層對碳的分析結(jié)果的準(zhǔn)確性影響更大。
其它因素影響。 光電光譜檢測分析存在的誤差在所難免,要正確的認(rèn)識誤差,查找誤差存在的原因,采取有效的措施消除誤差。光譜檢測分析誤差除受上面幾種因素的影響外,還有以下幾種因素的影響:
1.人的因素: 操作者的質(zhì)量意識、責(zé)任意識、操作技術(shù)、水平高低、熟練程度等都會影響檢測的效果;
2.設(shè)備因素: 比如設(shè)備的狀態(tài)是否優(yōu)良、是否定期檢測和維護(hù),光源性能穩(wěn)定性如何,氬氣供氣系統(tǒng)是否穩(wěn)定,試樣加工設(shè)備狀況是否正常、是否對加工設(shè)備進(jìn)行定期維護(hù)保養(yǎng)等,都會一定程度上影響檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性。
3.樣品試樣因素:比如待測試樣成分是否均勻,是否具有試樣的代表性,熱處理狀態(tài)和組織結(jié)構(gòu)狀態(tài)是否正常,標(biāo)準(zhǔn)試樣的成分和控制試樣的成分是否均勻,成分含量的標(biāo)準(zhǔn)值是否可靠,組織結(jié)構(gòu)是否統(tǒng)一、磨制樣品方法是否規(guī)范、效果是否有效等等,都是影響其檢測效果的關(guān)鍵因素。
4.分析方法因素:在分析方法上,分析曲線制作及擬合程度是否達(dá)標(biāo),標(biāo)準(zhǔn)化過程及效果是否高效,控樣選擇是否規(guī)范,定值是否嚴(yán)格等等,都一定程度上影響著檢測效果。
5.環(huán)境因素:比如檢測所在分析室的溫度、濕度是否正常,受否受電磁干擾的影響,所處環(huán)境是否清潔衛(wèi)生,是否具備檢測要求的條件穩(wěn)定的操作環(huán)境,只有有了良好的檢測環(huán)境,才能為檢測結(jié)果的準(zhǔn)確性提供保障。
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公司名稱 鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司
聯(lián)系賣家 文先生 (QQ:415905311)
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