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鋼研納克檢測(cè)技術(shù)股份有限公司
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店齡5年 · 企業(yè)認(rèn)證 · 北京市
主營(yíng)產(chǎn)品: ICP光譜儀,電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,電感耦合等離子體光譜儀,ICPOES
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ῡῢῤῡῢ῟ῧῧῦῥῦ
克直讀光譜儀
價(jià)格
訂貨量(臺(tái))
¥225000.00
≥1
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聯(lián)系人 文先生
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商品參數(shù)
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商品介紹
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光學(xué)系統(tǒng) 巴邢 - 龍格系統(tǒng)
焦距 750mm
譜線范圍 120~800nm
分辨率 優(yōu)于 0.01nm
電源要求 220V 單相 16A 2.5KVA
外形尺寸 1452mm×1367mm×860mm
重量 約 60Kg
商品介紹
光譜分析儀器的分析的過程是將被測(cè)物質(zhì)的試樣引入光源中,給以外界的能量,使試樣蒸發(fā)成氣態(tài)原子,并且使氣態(tài)原子的外層電子由低能態(tài)激發(fā)至高能態(tài),處于高能 態(tài)的原子很不穩(wěn)定要躍遷至基態(tài)或低能態(tài),便產(chǎn)生了輻射。由于被分析試樣中含有不同的原子就會(huì)產(chǎn)生不同波長(zhǎng)的輻射,對(duì)于所產(chǎn)生輻射經(jīng)過攝譜儀進(jìn)行分光就會(huì)在 感光板上得到按波長(zhǎng)順序排列的有規(guī)則的譜線,通過儀器的觀察辨認(rèn)各種特征波長(zhǎng)的譜線存在情況就是光譜定性分析。如果用光譜分析儀器進(jìn)一步測(cè)量就是光譜的定 量分析。
Labspark 750T 精密直讀火花光譜儀技術(shù)參數(shù)
Labspark 750T 技術(shù)優(yōu)勢(shì)
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料。
?獨(dú)特的恒溫式火花臺(tái)設(shè)計(jì),環(huán)狀氬氣流方式,保證連續(xù)激發(fā)狀態(tài)下儀器的穩(wěn)定性,避免使用水冷帶來的不利影響。
?安全防護(hù)設(shè)備阻止不安全激發(fā)。
?銅基座火花臺(tái),火花臺(tái)易于拆卸,便于清潔。
?帶有獨(dú)特配件,易于檢測(cè)多種形狀的分析對(duì)象(餅狀、棒狀、線狀)。
?一體式透鏡隔離閥,可防止因日常維護(hù)導(dǎo)致的光室污染影響強(qiáng)度下降,透鏡易于更換。
?放電室設(shè)計(jì)獨(dú)特,保證放電在條件下進(jìn)行。
?激發(fā)電極為鎢電極。
?帕邢 - 龍格架發(fā),高發(fā)光全息光柵。
?光柵焦距 750mm,刻線為 2400 條 /mm,
?譜線范圍:120-800nm。
?色散率:一級(jí)色散率:0.55nm/mm, 二級(jí)色散率:0.275nm/mm。
?分辨率:優(yōu)于 0.01nm。
?整體出射狹縫調(diào)試方便、快捷、便于用戶增加更改通道,節(jié)約成本。
?光柵、光電倍增管等核心部件全部進(jìn)口。
?真空度由真空泵和真空控制設(shè)備控制。
?鑄鐵光室,熱膨脹系數(shù)低,保證真空度的要求。
?采用納克公司獨(dú)創(chuàng)的金屬原位分析儀的核心關(guān)鍵技術(shù) -- 單次放電采集解析技術(shù)(Single Discharge Analysis,SDA)。
?世界首創(chuàng)的多通道同步描跡提高儀器穩(wěn)定性。
?延時(shí)積分技術(shù),國(guó)內(nèi)空白、,不同的通道采用不同的積分起始時(shí)間。
?內(nèi)部恒溫系統(tǒng),不同的部位采用不同的恒溫條件,大大減少了外部環(huán)境變化對(duì)儀器的影響(控制精度 ±0.1℃)
?連續(xù)可調(diào)光源,對(duì)不同的材質(zhì)可以匹配不同的光源實(shí)現(xiàn)的分析結(jié)果。
?模塊化的電路設(shè)計(jì),維修方便快捷,為遠(yuǎn)程診斷做好了準(zhǔn)備。
?軟件可調(diào)獨(dú)立高精度負(fù)高壓模塊,負(fù)高壓精度< 0.05%。
?負(fù)高壓可由分析程序控制,調(diào)高分析程序的分析精度,擴(kuò)展元素的分析范圍。
?實(shí)時(shí)監(jiān)控各通道負(fù)高壓、 光室溫度、火花臺(tái)溫度、真空度等重要參數(shù),確保儀器長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行。
?各光電倍增管負(fù)高壓獨(dú)立 供電,消除相互干擾,運(yùn)行更可靠。
?根據(jù)分析需要,可程序調(diào)整,拓寬反分析范圍。
?包括不同基體不同曲線的計(jì)算,全中文分析軟件,方便用戶操作,第三元素干擾校正,提高分析準(zhǔn)確度。
在實(shí)際工作中,由于試樣和標(biāo)準(zhǔn)樣品的冶金過程和某些物理狀態(tài)的差異,常常使工作曲線發(fā)生變化,通常標(biāo)準(zhǔn)樣品多為鍛造和軋制狀態(tài),而日常分析為澆鑄狀態(tài)。為了避免試樣因冶金狀態(tài)變化給分析結(jié)果帶影響,常常應(yīng)使用一個(gè)與分析試樣冶金狀態(tài)和物理狀態(tài)都一樣的控樣,來控制分析結(jié)果,控樣的元素含量應(yīng)位于工作曲線含量范圍內(nèi),并與分析試樣的含量越接近越好。同時(shí),控制樣品的元素含量應(yīng)當(dāng)準(zhǔn)確可靠,成份分布均勻,外觀無氣孔、砂眼、裂紋等物理缺陷。
Labspark 750T技術(shù)特點(diǎn)
?原位單次放電采集的專利技術(shù)(SDA)有效提高分析精度
?單板式透鏡架,擦拭時(shí)大大降低對(duì)光室的污染
?基于 ARM9 的儀器狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)
?固態(tài)吸附阱,防止油氣對(duì)光室的污染,提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性
?綠光背景燈,加快響應(yīng)速度,提高短期分析精度
?·銅火花臺(tái)底座,提高散熱性及堅(jiān)固性。
?·激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料。
?可變延時(shí)積分技術(shù),大大降低背景干擾。
?高精度光電倍增管負(fù)高壓獨(dú)立供電連續(xù)可調(diào)技術(shù),調(diào)整更精確,可程序調(diào)整,提高動(dòng)態(tài)范圍。
?網(wǎng)口采集,通用性更強(qiáng)。
?真空光室由特殊材質(zhì)制作:極低的熱膨脹系數(shù),受溫度波動(dòng)影響小。
?全新光室結(jié)構(gòu):可輕松檢測(cè) Li、Na、K 等長(zhǎng)波元素以及極短波長(zhǎng)元素或干擾嚴(yán)重的元素,如 N、P、S、B、Sb 等。
?內(nèi)置疲勞背景燈:有效降低光電倍增管暗電流對(duì)信號(hào)
?收集的影響,提高信噪比,延長(zhǎng)光電倍增管的使用壽命。
?自動(dòng)描跡:全新設(shè)計(jì)的自動(dòng)描跡系統(tǒng),快速精準(zhǔn),大大提高了儀器分析效率并降低了操作難度,提供自動(dòng)與手動(dòng)描跡切換功能。
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺(tái):采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路,大大減少了氬氣的消耗量,減少了火花臺(tái)內(nèi)部的殘留金屬粉塵并且提高了儀器分析數(shù)據(jù)時(shí)的穩(wěn)定性。
Labspark 750T 精密直讀火花光譜儀技術(shù)參數(shù)
Labspark 750T 技術(shù)優(yōu)勢(shì)
?激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料。
?獨(dú)特的恒溫式火花臺(tái)設(shè)計(jì),環(huán)狀氬氣流方式,保證連續(xù)激發(fā)狀態(tài)下儀器的穩(wěn)定性,避免使用水冷帶來的不利影響。
?安全防護(hù)設(shè)備阻止不安全激發(fā)。
?銅基座火花臺(tái),火花臺(tái)易于拆卸,便于清潔。
?帶有獨(dú)特配件,易于檢測(cè)多種形狀的分析對(duì)象(餅狀、棒狀、線狀)。
?一體式透鏡隔離閥,可防止因日常維護(hù)導(dǎo)致的光室污染影響強(qiáng)度下降,透鏡易于更換。
?放電室設(shè)計(jì)獨(dú)特,保證放電在條件下進(jìn)行。
?激發(fā)電極為鎢電極。
?帕邢 - 龍格架發(fā),高發(fā)光全息光柵。
?光柵焦距 750mm,刻線為 2400 條 /mm,
?譜線范圍:120-800nm。
?色散率:一級(jí)色散率:0.55nm/mm, 二級(jí)色散率:0.275nm/mm。
?分辨率:優(yōu)于 0.01nm。
?整體出射狹縫調(diào)試方便、快捷、便于用戶增加更改通道,節(jié)約成本。
?光柵、光電倍增管等核心部件全部進(jìn)口。
?真空度由真空泵和真空控制設(shè)備控制。
?鑄鐵光室,熱膨脹系數(shù)低,保證真空度的要求。
?采用納克公司獨(dú)創(chuàng)的金屬原位分析儀的核心關(guān)鍵技術(shù) -- 單次放電采集解析技術(shù)(Single Discharge Analysis,SDA)。
?世界首創(chuàng)的多通道同步描跡提高儀器穩(wěn)定性。
?延時(shí)積分技術(shù),國(guó)內(nèi)空白、,不同的通道采用不同的積分起始時(shí)間。
?內(nèi)部恒溫系統(tǒng),不同的部位采用不同的恒溫條件,大大減少了外部環(huán)境變化對(duì)儀器的影響(控制精度 ±0.1℃)
?連續(xù)可調(diào)光源,對(duì)不同的材質(zhì)可以匹配不同的光源實(shí)現(xiàn)的分析結(jié)果。
?模塊化的電路設(shè)計(jì),維修方便快捷,為遠(yuǎn)程診斷做好了準(zhǔn)備。
?軟件可調(diào)獨(dú)立高精度負(fù)高壓模塊,負(fù)高壓精度< 0.05%。
?負(fù)高壓可由分析程序控制,調(diào)高分析程序的分析精度,擴(kuò)展元素的分析范圍。
?實(shí)時(shí)監(jiān)控各通道負(fù)高壓、 光室溫度、火花臺(tái)溫度、真空度等重要參數(shù),確保儀器長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定運(yùn)行。
?各光電倍增管負(fù)高壓獨(dú)立 供電,消除相互干擾,運(yùn)行更可靠。
?根據(jù)分析需要,可程序調(diào)整,拓寬反分析范圍。
?包括不同基體不同曲線的計(jì)算,全中文分析軟件,方便用戶操作,第三元素干擾校正,提高分析準(zhǔn)確度。
在實(shí)際工作中,由于試樣和標(biāo)準(zhǔn)樣品的冶金過程和某些物理狀態(tài)的差異,常常使工作曲線發(fā)生變化,通常標(biāo)準(zhǔn)樣品多為鍛造和軋制狀態(tài),而日常分析為澆鑄狀態(tài)。為了避免試樣因冶金狀態(tài)變化給分析結(jié)果帶影響,常常應(yīng)使用一個(gè)與分析試樣冶金狀態(tài)和物理狀態(tài)都一樣的控樣,來控制分析結(jié)果,控樣的元素含量應(yīng)位于工作曲線含量范圍內(nèi),并與分析試樣的含量越接近越好。同時(shí),控制樣品的元素含量應(yīng)當(dāng)準(zhǔn)確可靠,成份分布均勻,外觀無氣孔、砂眼、裂紋等物理缺陷。
Labspark 750T技術(shù)特點(diǎn)
?原位單次放電采集的專利技術(shù)(SDA)有效提高分析精度
?單板式透鏡架,擦拭時(shí)大大降低對(duì)光室的污染
?基于 ARM9 的儀器狀態(tài)實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)
?固態(tài)吸附阱,防止油氣對(duì)光室的污染,提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性
?綠光背景燈,加快響應(yīng)速度,提高短期分析精度
?·銅火花臺(tái)底座,提高散熱性及堅(jiān)固性。
?·激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源,適應(yīng)各種不同材料。
?可變延時(shí)積分技術(shù),大大降低背景干擾。
?高精度光電倍增管負(fù)高壓獨(dú)立供電連續(xù)可調(diào)技術(shù),調(diào)整更精確,可程序調(diào)整,提高動(dòng)態(tài)范圍。
?網(wǎng)口采集,通用性更強(qiáng)。
?真空光室由特殊材質(zhì)制作:極低的熱膨脹系數(shù),受溫度波動(dòng)影響小。
?全新光室結(jié)構(gòu):可輕松檢測(cè) Li、Na、K 等長(zhǎng)波元素以及極短波長(zhǎng)元素或干擾嚴(yán)重的元素,如 N、P、S、B、Sb 等。
?內(nèi)置疲勞背景燈:有效降低光電倍增管暗電流對(duì)信號(hào)
?收集的影響,提高信噪比,延長(zhǎng)光電倍增管的使用壽命。
?自動(dòng)描跡:全新設(shè)計(jì)的自動(dòng)描跡系統(tǒng),快速精準(zhǔn),大大提高了儀器分析效率并降低了操作難度,提供自動(dòng)與手動(dòng)描跡切換功能。
?全新設(shè)計(jì)的共軸火花臺(tái):采用優(yōu)化的內(nèi)部氣路,大大減少了氬氣的消耗量,減少了火花臺(tái)內(nèi)部的殘留金屬粉塵并且提高了儀器分析數(shù)據(jù)時(shí)的穩(wěn)定性。
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