PlasmaMS 300型電感耦合等離子體質譜儀簡稱PlasmaMS 300，是鋼研納克檢測技術股份有限公司推出的ICP質譜儀，作為一種精密無機元素分析儀器，它具有以下特點：
1.1.1 進樣系統(tǒng)
1) 進樣系統(tǒng)應外置, 便于操作、更換和清洗；
2) 采用進口霧化器，霧化效率高,不易堵塞；
3) 進樣管路的長度盡可能短, 減少了記憶效應。；
4) 儀器配備系列經過優(yōu)化的進樣系統(tǒng)，可用于有機溶劑、高鹽/復雜基體樣品、含氫氟酸（HF）等樣品的測試；
5) 使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩(wěn)定；
6) 4通道12滾輪進口蠕動泵，提升樣品導入穩(wěn)定性和均勻性。
1.1.2 ICP離子源
1) 自激式固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小巧，效率高，功率可通過反饋調節(jié)，實現(xiàn)較高的穩(wěn)定性；
2) 自動匹配速度快，保證了點火成功率；
3) 精準控制的三維移動平臺，實現(xiàn)了炬管自動定位及自動校準的功能；
4) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸；
5) 快速插拔式氣管連接, 方便拆卸。
1.1.3 接口單元
1) 保持樣品離子的完整性的同時，限度的讓所生成的離子通過；
2) 氧化物和二次離子產率盡可能低；
3) 等離子體的二次放電盡可能小
4) 不易堵塞，產生熱量盡可能少；
5) 易于拆卸和維護：錐口拆冼過程中，不影響真空系統(tǒng)，無需卸真空；
1.1.4 離子傳輸系統(tǒng)
1) 連續(xù)偏轉設計的離子光學系統(tǒng)的消除中子和光子的干擾
2) 優(yōu)異的六極桿離子鏡系統(tǒng)優(yōu)化了離子傳輸效率，聚集盡可能多的要測定的離子沿同樣方向進入四極桿
3) 帶動能歧視效應的碰撞反應池技術，有效消除由樣品基體或等離子體源引起的多原子離子干擾；
1.1.5 四極桿質量分析系統(tǒng)
1) 自主研發(fā)的四極桿電源采用了數(shù)字直接頻率合成(DDS)技術，能夠進行自動頻率匹配調諧，使得儀器的自動化程度和安全性能有了進一步提高；
2) 內部無連接線、頂部進入的無線纜設計，使裝配更為方便,增加儀器的一致性和可靠性；
3) 的四極桿尺寸結合全固態(tài)四極桿RF發(fā)生器, 帶來的分辨率和長期穩(wěn)定性，具有同時記錄所有元素譜線的“攝譜”功能，并能存儲和檢索；
4) 結合六極桿離子鏡系統(tǒng)和的真空系統(tǒng), 帶來的靈敏度；
1.1.6 離子檢測和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
1) 采用不連續(xù)打拿極電子倍增器；
2) 即插即用設計, 沒有任何連接線, 方便更換；
3) 軟件硬件控制檢測器過荷保護
4) 三種數(shù)據(jù)采集模式，全質量連續(xù)掃描； 跳峰掃描；兩者結合的掃描。
1.1.7 真空系統(tǒng)
1) 自主開發(fā)了的真空采集控制系統(tǒng)，全自動整機真空保護，保證儀器的正常工作；
2) 先進的緩沖技術，機械泵間斷運行，實現(xiàn)了極低的待機功耗；
3) 獨特的防粉塵、防返油霧設計，有效隔斷油氣，解決機械泵油氣污染問題，確保了儀器的超高真空潔凈系統(tǒng)
1.1.8 控制系統(tǒng)
1) 具有包括溫度、水流、氣壓、位置狀態(tài)監(jiān)控功能等，上提供儀器保護，延長使用壽命；
2) 使用CAN總線結構, 其獨特的編碼方式具有的穩(wěn)定性和抗干擾能力；
3) 利用CAN總線的獨特優(yōu)勢, 儀器增加的任何功能均為即插即用模式, 非常方便。
1.1.9 軟件系統(tǒng)
1) 儀器測試各參數(shù)、自動調諧、三維移動平臺、透鏡電源等參數(shù)靈活設置；
2) 全中文的軟件界面，符合中國人的思維習慣，參數(shù)監(jiān)控和方法設置直觀快捷；可提供一鍵式（調諧、測試等）操作的功能；
3) 軟件可查看各個部件的實時運行狀態(tài)以及故障報錯，確保儀器的安全運行

PlasmaMS 300 內標元素的選擇
內標元素的使用可以用來校正多樣品測定的過程中，信號隨著時間發(fā)生的漂移。實驗室環(huán) 境的變化或者樣品基體的變化（例如粘度等）都會造成信號的漂移。
對于任何的多元素分析，我們都推薦用戶至少使用一個內標元素。如果待測元素的質量分 布從低到高都有，應當至少使用3個內標元素，分別檢測低質量、中質量、高質量區(qū)段的 同位素信號漂移。
選擇什么同位素作為內標元素需要根據(jù)您的方法中的待測目標同位素來決定。當需要為您 方法中的各個目標同位素分配內標同位素的時候，可以考慮一下幾個因素：
1.首先考慮的，也是重要的一個因素就是：用作內標的元素必須是您的樣品中不包含的 元素。這些內標元素應當精準地添加到每一個單溶液里。一般我們可以單獨配置內標元素 溶液，然后在分析的時候進行在線添加，可以保證添加的精準性。內標元素的信號強度會 做為參比，由軟件來對每個單溶液進樣時發(fā)生的信號抑制或增強進行計算和校正。如果您 的樣品中含有內標元素，則內標信號會發(fā)生額外的不規(guī)則的信號增強，造成軟件校正后的 目標元素濃度比實際濃度偏低。
2.其次，內標元素的質量數(shù)能和目標元素比較接近，建議內標同位素和目標元素同位 素之間的質量差不要超過50amu。
3.為了確保內標元素和目標元素在相同條件下的行為表現(xiàn)基本一致，內標元素和目標元素 的電離電位比較接近。
當使用內標元素校正的時候，有兩種校正方式是可以供選擇的：
1. 參考法(Reference)
2. 插值法(Interpolation)
參考法：任何分析元素同位素峰均能以任一內標元素同位素峰作為參照。目標元素峰不需 要為內標元素附近的峰。當使用參考法的時候，以校正空白(calibration blank)的內標響應 值作為100%，通過計算樣品中內標元素的回收率，來校正進樣過程中的信號漂移。
樣品中的內標元素回收率（相對于calibration blank中的100%而產生的偏離）會被用作校 正因子來校正目標同位素的數(shù)據(jù)（每種目標同位素所使用的內標同位素都應是其在方法中 選擇的用來參考的那一個內標同位素）
插補法：內標對測試峰的影響與兩者質量數(shù)的接近程度有關。一個分析元素若置于兩內標 物中間，可依據(jù)每個 amu 基數(shù)進行計算因素的校正。
首先：
IS 1 in Blank set to 100% IS 2 in Blank set to 100%
IS 2 的質量數(shù)大于 IS 1。
如果
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 80%
我們可以認為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了 20%的抑制. Factor =1/80% = 1.25.
又如：
IS 1 in Sample reads 80%
IS 2 in Sample reads 60%
我們可以認為 IS 1 &2 之間的所有元素都受到了與質量變化相關的抑制（質量數(shù)越大，受
到抑制越強），距離 IS1 與 IS2 的距離相等的質量數(shù)的元素， Factor =1/70% = 1.43.
上圖顯示的就是使用iCAP Q測量時，設置了一系列覆蓋質量數(shù)區(qū)間的內標元素，計算樣 品中的內標元素回收率：
6Li 45Sc 115In 209Bi
因為所有的目標元素濃度都需要使用內標回收率來進行校正,建議用戶將內標元素的濃度 控制在一個合理范圍，來降低內標的%RSD，一般說來我們建議內標元素的
icps >100,000。

PlasmaMS 300在金屬工業(yè)領域的應用
痕量元素含量的變化對材料性能和生產控制有巨大影響。
PlasmaMS 300 PLASMAMS 300能在主要元素存在的條件下精確測定痕量元素，使用跳峰掃模式可以避 免主量元素、其氧化物、其雙電荷、其氫化物等的干擾，選擇同位素時應注意避免基體離 子干擾。
應用領域：
在研發(fā)和專業(yè)化學應用領域有較廣的范圍 高純陶瓷和化學品
金屬和玻璃 產品純度驗證

PlasmaMS 300儀器組成與工作原理
ICP-MS全稱電感耦合等離子體質譜（Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)主要包括以下功能模塊：進樣系統(tǒng)、ICP離子源、接口單元、離子傳輸系統(tǒng)、四級桿質量分析系統(tǒng)、離子檢測及和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、整機控制系統(tǒng)與軟件系統(tǒng)。
圖2.1 PlasmaMS 300型結構示意圖
其工作原理是：待測樣品通過進樣系統(tǒng)進入離子源部分，在被 ICP射頻電源離子化后，在接口及離子傳輸系統(tǒng)中通過聚焦、消除干擾后進入四極桿質量分析器，在其中離子將按照質荷比（m/z）大小被分開，經過聚焦后，達到檢測器。檢測器將不同質荷比的離子流通過接收、測量及數(shù)據(jù)處理轉換成電信號經放大、處理后得到分析結果。
2.2 主機部件
儀器主機的主要部件有：進樣系統(tǒng)、ICP離子源、接口單元、離子傳輸系統(tǒng)、四級桿質量分析系統(tǒng)、離子檢測及和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、整機控制系統(tǒng)與軟件系統(tǒng)。
進樣系統(tǒng)包含蠕動泵、進樣管排樣、霧化器、霧室、玻璃彎管、炬管；
ICP離子源包括包含功放箱、匹配箱；
接口單元包括接口、水腔、提取透鏡；
離子傳輸系統(tǒng)包括π透鏡、碰撞反應池、透鏡組；
四級桿質量分析系統(tǒng)包括四級桿、饋入件；
離子檢測及數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)主要包括電子倍增器、電子倍增器支架；
真空系統(tǒng)包括機械泵、2個分子泵、真空腔體、潘寧規(guī)；
整機控制系統(tǒng)包含各種控制電路模塊。
2.3 輔助裝置
智能溫控冷卻循環(huán)水箱是重要的輔助裝置，它冷卻接口、線圈、離子源和分子泵。
穩(wěn)壓電源是能為負載提供穩(wěn)定交流電的電子裝置。當電網電壓或負載出現(xiàn)瞬間波動時，穩(wěn)壓電源會以10ms~30ms的響應速度對電壓幅值進行補償，使其穩(wěn)定在±2%以內。